產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 加熱溫度 | 室溫~450℃℃ |
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加熱原理 | 石墨加熱 | 價格區(qū)間 | 面議 |
試劑通道 | 24 | 溫控精度 | ±1℃℃ |
消解位數(shù) | 24位 | 儀器種類 | 石墨消解 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè) |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
多孔石墨消解爐,全自動恒溫消解儀GY-QSMXJ,智能石墨消解儀
產(chǎn)品簡介
上海歸永GY-SMXJ 全自動石墨消解儀采用濕法消解的原理,特別針對無機(jī)樣品前處理領(lǐng)域設(shè)計,實現(xiàn)了加酸、搖勻、加熱、定容等過程全部由計算機(jī)自動控制,提高了消解操作的安全性,大大降低了接觸酸過程中產(chǎn)生的人員傷害,并且顯著提高樣品的一致性、重復(fù)性。除了添加試劑、搖勻和加熱樣品外,該系統(tǒng)還包含了標(biāo)準(zhǔn)方法庫,擁有消解完成后調(diào)整樣品體積,以及記錄消解過程中的各個步驟等多項功能。實驗室全自動石墨消解儀報價GY-QSMXJ
應(yīng)用范圍
環(huán)境分析領(lǐng)域土壤、沉積物檢測、水質(zhì)檢測領(lǐng)域
食品農(nóng)業(yè)領(lǐng)域動植物檢測、食品飲料、飼料肥料領(lǐng)域
安全健康領(lǐng)域化妝品、護(hù)理用品、日用品領(lǐng)域
技術(shù)參數(shù) & 型號選擇
主機(jī)
立體石墨爐加熱主體,消解數(shù)量為60位??咨顬?0mm,孔直徑33mm,表面鍍特氟龍,立體受熱,保證了升溫速度和加熱效率及均勻性,提高樣品前處理重復(fù)性。
雙溫區(qū)控制設(shè)計,各控制30位,可分別獨(dú)立控制溫度、升降、震蕩、加液等動作。
石墨爐溫度在室溫到230℃之間可調(diào),采用PID控制,消解過程中采用梯度升溫的方式,逐步提高消解溫度,無限極設(shè)置升溫步驟,樣品消解更*,溫度精度為0.1℃,孔間溫差<0.5℃
儀器主體采用多層鍍特氟龍不銹鋼,面板、試劑管路、廢液收集器的材質(zhì)均為特氟龍,可長期工作在高濃度酸霧環(huán)境中,不會被酸霧腐蝕。
自動機(jī)械臂的Y臂為全塑材質(zhì) ,無任何運(yùn)動部件,無部件更換需求,不會被酸霧腐蝕。
設(shè)備安裝有溫度顯示裝置,可清晰直觀的顯示當(dāng)前的加熱溫度,剩余時間。
樣品消解管為PTFE材質(zhì),60位,容量為50ML,特殊用戶要求可增加到100ML消解管;樣品消解管架4個(每架15位),采用不銹鋼骨架,表面鍍多層特氟龍,耐強(qiáng)酸堿,不會被腐蝕。
試劑輸送系統(tǒng)
試劑輸送系統(tǒng)耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,管路全部采用PFA管,輸液速度可達(dá)3mL/s,速度可調(diào),精度優(yōu)于0.2ml或1%。實驗室全自動石墨消解儀報價GY-QSMXJ
消解試劑添加時,升降系統(tǒng)將試管架升高,將樣品管脫離加熱塊,在室溫下添加試劑,避免劇烈反應(yīng)等意外發(fā)生。
消解試劑通道:標(biāo)配7個獨(dú)立試劑通道,其中6個獨(dú)立試劑通道,加1個定容劑通道,多可升級至13個獨(dú)立試劑通道。各通道獨(dú)立,確保試劑不交叉污染,保證設(shè)置多種消解方法添加多種試劑不用手動更換試劑。
主機(jī)配置消解管架及馬達(dá)系統(tǒng),可在加酸、趕酸、定容時升降消解管架。
可通過馬達(dá)振蕩系統(tǒng),實現(xiàn)消解管架的震蕩,震蕩頻率1-100%可調(diào),實現(xiàn)加試劑后與樣品的混勻。
各通道試劑剩余量報警功能,廢液瓶滿預(yù)警功能。
樣品消解完畢后,在室溫下定容,通過超聲傳感器測量消解管液面至傳感器的距離,支持1-60位的自動定容至體積(5~50mL),定容精度:0.5ml或<1%,可隨時對超聲波傳感器進(jìn)行校準(zhǔn)。
儀器控制和方法設(shè)置
軟件全中/英文控制界面,可隨意設(shè)定消解和其它前處理步驟,無限存儲消解方法及步驟,自動存儲運(yùn)行數(shù)據(jù)及設(shè)定,軟件免費(fèi)升級,滿足用戶不同樣品消解的需求。
用戶可在其它電腦通過局域網(wǎng)查看設(shè)備狀態(tài),消解進(jìn)程。
具有定時預(yù)約功能,可時間自動運(yùn)行,具有意外斷電,記錄自動保存功能
全自動石墨消解儀價格|智能石墨消解儀|全自動石墨消解器|GY-QSMXJ全自動石墨消解系統(tǒng)價格
標(biāo)準(zhǔn)曲線求得濃度,比對測定值與標(biāo)準(zhǔn)曲線確認(rèn)用標(biāo)準(zhǔn)溶液濃度,求其相對誤差值。
查核樣品分析指將適當(dāng)濃度之標(biāo)準(zhǔn)品(不同于配制標(biāo)準(zhǔn)曲線之標(biāo)準(zhǔn)品)添加于與樣品相似的基質(zhì)中所配制成之樣品;或直接購買濃度經(jīng)確認(rèn)之樣品充當(dāng)之。藉此可確定分析結(jié)果的準(zhǔn)確度。除檢測方法另有規(guī)定外,通常至少每10個樣品應(yīng)同時分析一個查核樣品,若每批次樣品數(shù)少于10個,則每批次應(yīng)執(zhí)行一個查核樣品分析。檢驗室應(yīng)記錄查核樣品編號、分析日期、查核樣品濃度值、查核樣品測定值及回收率度范圍以上、下限表示的濃度范圍。低于下限濃度時,需將顯示器的尺度放大而予降低,使范圍向下延伸;高于上限濃度時,需作線性校正。此濃度范圍隨儀器靈敏度及所使用操作條件不同而異。
靈敏度原子吸收光譜法AA:以能產(chǎn)生1%吸光度的每公升溶液中所含有的金屬毫克數(shù)表示。ICP:以發(fā)射光的強(qiáng)度與濃度的函數(shù)關(guān)系所建立的檢量線的斜率表示。
干擾檢查樣含有已知濃度之干擾物及待測物的溶液,可用來檢查背景及元素間干擾的校正因子。初校正確認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)品用來檢查起始校正曲線準(zhǔn)確度之已確認(rèn)或獨(dú)立配制之溶液。持續(xù)校正確認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)品用來確認(rèn)分析過程中的校正準(zhǔn)確度。需針對分析方法中的每一待測物進(jìn)行此校正。至少,必須于樣品分析之前和樣品分析完成后,各分析一次持續(xù)校正確認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)品,其濃度需為檢量線中點(diǎn)濃度或接近中點(diǎn)的濃度。
校正標(biāo)準(zhǔn)一系列已知濃度的待測物標(biāo)準(zhǔn)溶液,用來校正儀器(即,制備檢量線)。
線性范圍檢量線呈線性的濃度范圍。方法空白試劑水經(jīng)由與樣品相同制備程序者。校正空白試劑水中添加與標(biāo)準(zhǔn)品和樣品相同種類與數(shù)量之溶液。實驗室品管標(biāo)準(zhǔn)品于試劑水中添加已知濃度的待測物,并經(jīng)過與樣品相同的制備與分析的步驟者。此系用來檢查樣品漏失/回收率值。標(biāo)準(zhǔn)添加法標(biāo)準(zhǔn)添加法系針對未知樣品,及于未知樣品中添加數(shù)個已知但不同量之標(biāo)準(zhǔn)品,分別進(jìn)行分析樣品有效期限于的保存和儲存條件下,樣品采集后至樣品分析前的有效期間。檢量線須每天制備,至少要有一個空白及四個濃度標(biāo)準(zhǔn)溶液,檢量線完成后,須用至少一個檢量線空白及一個在中間濃度附近檢量線查核標(biāo)準(zhǔn)溶液(由參考物質(zhì)或其它獨(dú)立來源的標(biāo)準(zhǔn)品制備)確定檢量線準(zhǔn)確度。檢量線參考標(biāo)準(zhǔn)品之檢測值與真實值之偏差在10%以內(nèi),此檢量線才可認(rèn)為有效。稀釋測試每一分析批次選擇一具代表性之樣品進(jìn)行系列稀釋,以決定是否有干擾存在。待測物的濃度必須至少是預(yù)估偵測極限的25倍。先測定未稀釋樣品的粗濃度后,稀釋至少5(1 4)倍再重新分析。假如此批次的所有樣品濃度皆低于偵測極限的10倍,則以下節(jié)所述的添加回收分析為之。如果未稀釋的樣品濃度與稀釋樣品濃度的5倍值相差在10%以內(nèi)則表示無干擾存在,則不需使用標(biāo)準(zhǔn)添加法分析。回收率測試假如稀釋測試的結(jié)果不符合上述的要求,則表示干擾可能存在,此時須分析添加樣品以助于確定稀釋測試的結(jié)果。另外取一部分的測試樣品,加入一已知量的待測物使待測物濃度為原濃度的2到5倍;假如該批次的待測物濃度皆低于偵測極限,則將所選擇的樣品添加偵測極限的20倍。分析該添加樣品,并計算添加的回收率。假如回收率低于85%或高于115%,則該批次所有樣品皆須以標(biāo)準(zhǔn)添加法分析之。標(biāo)準(zhǔn)添加法標(biāo)準(zhǔn)添加技術(shù)意指將已知量的標(biāo)準(zhǔn)品加至一或多個處理的樣品溶液中。此技術(shù)可補(bǔ)償由于樣品之組成對分析訊號的增強(qiáng)或降低所導(dǎo)致之斜率偏差(樣品之斜率不同于檢量線的)現(xiàn)象,但無法校正加成性干擾所造成之基線偏移。標(biāo)準(zhǔn)添加法應(yīng)用于所有萃取程序萃取液之分析、申請表列排除(delisting petition)之委托分析、及每一種新樣品基質(zhì)之分析。光譜干擾可分為不同元素光譜的重疊;分子光譜無法解析的重疊;由光譜連續(xù)現(xiàn)象造成之背景;因高濃度元素迷光造成干擾。光譜的重疊可單獨(dú)測定干擾元素,再對重疊光譜加以修正。子光譜之重疊則需選擇不同波長來源。至于背景值與高濃度光譜可經(jīng)由基線的調(diào)整得到修正。多元素同時測定時定樣儀器偵測頻道中無元素間造成之光譜干擾,由于每一儀器系統(tǒng)不同。物理干擾
在樣品霧化及傳送過程中,因黏度及表面張等性質(zhì)之改變,尤其若樣品中含有高溶解度固體或酸度過高時,則