OLED又叫有機(jī)電激光顯示、有機(jī)發(fā)光半導(dǎo)體，具有優(yōu)秀的圖象質(zhì)量，特別是在亮度以及對(duì)比度等方面，因此被廣泛應(yīng)用于彩色顯示器。。近十年來(lái)，對(duì)OLED的研究得到廣泛的關(guān)注，對(duì)未來(lái)的圖象顯示技術(shù)帶來(lái)無(wú)法估量的沖擊。OLED器件的性能與空穴注入過(guò)程有非常密切的關(guān)系，通過(guò)使用錫摻雜氧化銦（ITO）做OLED的陽(yáng)極。

    固體表面的結(jié)構(gòu)和組成都與內(nèi)部不同，處于表面的原子或離子表現(xiàn)為配位上的不飽和性，這是由于形成固體表面時(shí)被切斷的化學(xué)鍵造成的。正是由于這一原因，固體表面極易吸附外來(lái)原子，使表面產(chǎn)生污染。因環(huán)境空氣中存在大量水份，所以水是固體表面最常見(jiàn)的污染物。由于金屬氧化物表面被切斷的化學(xué)鍵為離子鍵或強(qiáng)極性鍵，易與極性很強(qiáng)的水分子結(jié)合，因此，絕大多數(shù)金屬氧化物的清潔表面，都是被水吸附污染了的。

    等離子處理機(jī)如何進(jìn)行工作，工作流程？

1、首先將被清洗的工件送入真空機(jī)并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置開(kāi)始排氣，讓真空腔內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。

2、然后向真空室內(nèi)引入等離子清洗用的氣體，并保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定。

3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體，讓在真空腔內(nèi)產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理的工件并開(kāi)始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十分鐘不等，根據(jù)處理材質(zhì)的不同而定。

4、清洗完畢后切斷電源，并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出，清洗結(jié)束。

    將基片放在底座上，在真空系統(tǒng)中通入不同的混合氣體，并在金屬電極上家射頻電壓將氣體電離，形成等離子體，以非?？斓乃俣绒Z擊ITO基片。為了形成較均勻的電場(chǎng)，電極采用金屬柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)。等離子體的作用通常是改變表面粗糙度和提高功函數(shù)。研究發(fā)現(xiàn)，等離子作用對(duì)表面粗糙度的影響不大，只能使ITO的均方根粗糙度從1.8nm降到1.6nm，但對(duì)功函數(shù)的影響卻較大。

    用等離子體處理提高功函數(shù)的方法也不盡相同。氧等離子處理是通過(guò)補(bǔ)充ITO表面的氧空位來(lái)提高表面氧含量的。氧同表面有機(jī)污染物反應(yīng)生成CO2和H2O，去除了表面有機(jī)污染物。SF6通過(guò)在ITO表面形成一層含氟層來(lái)提高表面功函數(shù)，對(duì)粗糙度的改變不明顯。Ar等離子處理是通過(guò)除區(qū)在裝載基片過(guò)程中吸附的氧來(lái)清潔ITO表面的。