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美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)EGPS-1022

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時(shí)間：2024-09-10 14:39:53瀏覽次數(shù)：157次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)
噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

聯(lián)系 龔經(jīng)理 I8721868497 VX同號(hào)

美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

ELG-2 / EGPS-1022

能量范圍： 1 eV 至 2k eV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 0.5 mm 至 5 mm
安裝： 2?CF，可拆卸選項(xiàng)
特性/選項(xiàng)：用于能量掃描、偏轉(zhuǎn)、光柵化、高速脈沖的變焦鏡頭聚焦

美國(guó)kimball physics ELG-2電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

  • ● 能量范圍：1 eV 至 100 keV

  • ● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA

  • ● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優(yōu)勢(shì)：

  • ● 客戶可更換的點(diǎn)火裝置

  • ● 操作期間的機(jī)械對(duì)準(zhǔn)

  • ● 可存儲(chǔ)的控制設(shè)置

  • ● 電腦遙控/計(jì)量

性能：

  • ● 光束電流穩(wěn)定性：反饋穩(wěn)定的發(fā)射電流控制；優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%

  • ● 能量穩(wěn)定性：每小時(shí) ± 0.01%，滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應(yīng)用：

  • ● 快速脈沖/光束消隱

  • ● 偏轉(zhuǎn)/光柵

  • ● 槍式法拉第杯




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