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應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子

等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品特點(diǎn)：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時(shí)具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設(shè)計(jì)，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強(qiáng)度，大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設(shè)備穩(wěn)定高效運(yùn)行

樣品處理面積可達(dá)125mm（大處理面積可達(dá)200mm，如有需求請咨詢銷售人員）

4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設(shè)置多種實(shí)驗(yàn)參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障

等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品參數(shù):

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極：兩個(gè)自適應(yīng)平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金

3. 電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5. 功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W

6. 氣體控制：針式氣體流量閥，標(biāo)配1路氣體

7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài)，

可顯示設(shè)置值與實(shí)際值，便于實(shí)時(shí)控制。

可自由設(shè)置等離子功率，通入氣體時(shí)間

全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選

8. 保護(hù)裝置：一鍵急停保護(hù)按鈕

等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(shù)(標(biāo)準(zhǔn)配置)
外部尺寸	404640515mm
真空腔尺寸	直徑210mm*230mm		不銹鋼腔體
電極尺寸	125*125mm		多空自適應(yīng)平板電極
等離子體發(fā)生器	RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz		自適應(yīng)阻抗匹配電源
功率	0-200W連續(xù)可調(diào)		精度1W
真空計(jì)	熱電偶真空計(jì) 0-1000mT
供氣	1路氣體		6mm國標(biāo)連接件（軟管）
控制方式	4.3寸觸摸屏
可選配置
ALC	純鋁腔體
RF-300	等離子體發(fā)生器	頻率13.56MHz ，0-300W自動(dòng)阻抗匹配電源
可調(diào)電極	可調(diào)節(jié)電極間距	電極間距20-60mm可調(diào)，改變等離子體場濃度特性
CM裝置	沉積鍍膜模塊	用于改變表面特性： 1. 沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性 2. 沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性 3. 沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。
GP裝置	氣體純化裝置
PPU	粉體處理裝置	用于處理微納米級別顆粒
	氣體收集裝置	用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體
	小型氧氣發(fā)生器	用于制備氧氣，可取代氧氣罐
	氣體混合裝置	可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)
	感應(yīng)耦合模塊	感應(yīng)耦合等離子體裝置
	加熱電極模塊	電極可以加熱，室溫~200度可調(diào)。
	光譜儀模塊	可以增加光譜儀的接口，檢測等離子體光譜變化
	電極轉(zhuǎn)換模塊	可以自由變換電極設(shè)計(jì)，樣品可以放在射頻電極上，也可以放在地電極上。從而實(shí)現(xiàn)不同的處理效果。