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PLUTO-M等離子清洗機/處理機返回列表頁

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產(chǎn)品型號

品牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地武漢市

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更新時間：2021-06-22 15:34:35瀏覽次數(shù)：601次

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產(chǎn)品分類品牌分類

等離子體表面處理系統(tǒng): 等離子清洗機/去膠機等離子清洗機定制等離子清洗機配件

全部產(chǎn)品列表

產(chǎn)品簡介

應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子

PLUTO-M等離子清洗機/處理機是針對于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息，分析應(yīng)用需求，將多年設(shè)計和制造經(jīng)驗應(yīng)用于小型化，多功能的等離子體表面處理設(shè)備。

詳情介紹

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產(chǎn)品特點：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求

創(chuàng)新設(shè)計，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強度，大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設(shè)備穩(wěn)定高效運行

樣品處理面積可達125mm（大處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）

4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設(shè)置多種實驗參數(shù)

性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產(chǎn)品參數(shù):

1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極：兩個自適應(yīng)平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金

3. 電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5. 功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W

6. 氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體

7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，

可顯示設(shè)置值與實際值，便于實時控制。

可自由設(shè)置等離子功率，通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置：一鍵急停保護按鈕

等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(shù)(標準配置)
外部尺寸	404640515mm
真空腔尺寸	直徑210mm*230mm		不銹鋼腔體
電極尺寸	125*125mm		多空自適應(yīng)平板電極
等離子體發(fā)生器	RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz		自適應(yīng)阻抗匹配電源
功率	0-200W連續(xù)可調(diào)		精度1W
真空計	熱電偶真空計 0-1000mT
供氣	1路氣體		6mm國標連接件（軟管）
控制方式	4.3寸觸摸屏
可選配置
ALC	純鋁腔體
RF-300	等離子體發(fā)生器	頻率13.56MHz ，0-300W自動阻抗匹配電源
可調(diào)電極	可調(diào)節(jié)電極間距	電極間距20-60mm可調(diào)，改變等離子體場濃度特性
CM裝置	沉積鍍膜模塊	用于改變表面特性： 1. 沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性 2. 沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性 3. 沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。
GP裝置	氣體純化裝置
PPU	粉體處理裝置	用于處理微納米級別顆粒
	氣體收集裝置	用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體
	小型氧氣發(fā)生器	用于制備氧氣，可取代氧氣罐
	氣體混合裝置	可以根據(jù)可以要求進行混氣設(shè)計
	感應(yīng)耦合模塊	感應(yīng)耦合等離子體裝置
	加熱電極模塊	電極可以加熱，室溫~200度可調(diào)。
	光譜儀模塊	可以增加光譜儀的接口，檢測等離子體光譜變化
	電極轉(zhuǎn)換模塊	可以自由變換電極設(shè)計，樣品可以放在射頻電極上，也可以放在地電極上。從而實現(xiàn)不同的處理效果。