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布魯克(北京)科技有限公...

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展會(huì)預(yù)告|與您相約SEMICON CHINA 2023

閱讀:3658      發(fā)布時(shí)間:2023-6-26
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SEMICON CHINA 2023

?上海新國(guó)際博覽中心 E2館2135展位

圖片

 

自1988年在上海舉辦以來,SEMICON CHINA已成為中國(guó)首要的半導(dǎo)體行業(yè)盛事之一,見證了中國(guó)半導(dǎo)體制造業(yè)茁壯成長(zhǎng),加速發(fā)展的歷史。

SEMICON CHINA 2023是由中國(guó)電子商會(huì)和SEMI主辦的全球規(guī)模較大、較具影響力的半導(dǎo)體盛會(huì),本屆展會(huì)展覽面積達(dá)90000平米,將有1100余家展商參展,覆蓋芯片設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)、設(shè)備、材料、光伏、顯示等全產(chǎn)業(yè)鏈。

 

 

布魯克光譜

SEMICON CHINA 2023

 

時(shí)間:2023年6月29日-7月1日

地點(diǎn):上海新國(guó)際博覽中心

展位號(hào):E2館 E2135

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本次大會(huì),布魯克光譜將為您介紹材料質(zhì)量控制解決方案:

  • 芯片分裝污染、異物、失效分析

  • 顯示器件污染、異物分析

  • 電路板異物、失效分析

此外,布魯克光譜提供半導(dǎo)體行業(yè)多應(yīng)用方向的解決方案:

  • 常溫、低溫傅立葉變換光致發(fā)光系統(tǒng),紅外低維材料表征:量子點(diǎn)、量子阱、超晶格;

  • 聲子光譜、半導(dǎo)體材料帶隙,低維異質(zhì)結(jié)構(gòu)厚度以及電子特性研究;

  • 外延層厚度分析:同質(zhì)外延,異質(zhì)外延,單層,多層;

  • 紅外光電探測(cè)器器件光譜響應(yīng)表征:光電流譜;

  • 紅外發(fā)光器件、激光器等電致發(fā)光器件中心波長(zhǎng)、線寬、帶寬表征:ICL,QCL,VCSEL;

  • 工業(yè)高純晶體硅質(zhì)量控制:間隙氧,代位碳,III_VI族雜質(zhì)元素分析;

  • 光伏硅晶體質(zhì)量控制:間隙氧,代位碳,施主,受主元素含量;

  • 切割前硅晶棒、硅錠中氧含量軸向分布分析;

  • 高純鍺、化合物半導(dǎo)體中雜質(zhì)元素分析。

 

傅立葉變換紅外顯微鏡

 

LUMOS II 是一款獨(dú)立的傅立葉變換紅外顯微鏡,在失效分析、材料研究和顆粒分析方面非常出色。它采用FPA技術(shù),結(jié)構(gòu)緊湊、精確,具有超快的化學(xué)成像功能。生產(chǎn)電子產(chǎn)品時(shí)要用到各種類型的有機(jī)/無機(jī)材料。FTIR 光譜是一種通用技術(shù),可為大多數(shù)樣品提供有價(jià)值的化學(xué)信息。因此,F(xiàn)TIR 顯微技術(shù)對(duì)故障和根本原因分析有很大幫助。

 

傅立葉變換紅外光譜儀

 

INVENIO非常適用于需要高靈敏度、光譜或時(shí)間分辨率、穩(wěn)定性、靈活性和可升級(jí)性的情景,從而改善您在工業(yè)或研究應(yīng)用領(lǐng)域的日常分析體驗(yàn)。INVENIO可應(yīng)用在硅晶圓中氧和碳含量測(cè)定;亞微米量級(jí)至毫米量級(jí)外延層層厚無損光學(xué)測(cè)試、分析;近紅外光譜范圍的光致發(fā)光測(cè)量等。

 

 

布魯克光譜與您相約SEMICON 2023

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