POLOS 實(shí)時(shí)光譜測量裝置用于研究所

FR-Mic 提供：

實(shí)時(shí)光譜測量

薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測量、厚度映射

使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

 使用 FR-Mic，只需單擊一下，即可在 UV / VIS / NIR 光譜范圍內(nèi)的任何光譜范圍內(nèi)對(duì)薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)、反射率、透射率和吸光度進(jìn)行局部測量。

FR-Mic  是用于快速&準(zhǔn)確的涂層表征應(yīng)用的模塊化光學(xué)柱，這些應(yīng)用需要小至幾微米的光斑尺寸，典型的例子包括（但不限于）：微圖案表面，粗糙表面和許多其他。它可以與專用的計(jì)算機(jī)控制的XY舞臺(tái)結(jié)合使用，從而可以快速、輕松且準(zhǔn)確地自動(dòng)映射樣品的厚度和光學(xué)屬性。

POLOS 系列

FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍

實(shí)時(shí)光譜測量

薄膜厚度、光學(xué)特性、不均勻性測量、厚度映射

使用集成的 USB 連接高質(zhì)量彩色相機(jī)進(jìn)行成像

品牌POLOS 系列

產(chǎn)品編號(hào)FR-麥克風(fēng)-370-1700

大小FR-Mic 麥克風(fēng)

材料臺(tái)式系統(tǒng)

厚度范圍15 nm 至 150 μm

光譜范圍370 納米 - 1700 納米

光源 MTBF鹵素?zé)簦▋?nèi)部），3000 小時(shí)（不包括在內(nèi)！

FR-Mic 370 nm - 1700 nm 光譜范圍   應(yīng)用：

大學(xué)和研究實(shí)驗(yàn)室

半導(dǎo)體（氧化物、氮化物、硅、光刻膠等）

POLOS 實(shí)時(shí)光譜測量裝置用于研究所