POLOS 用于半導體上的單點測量裝置

polos 單點測量裝置

微型化解決方案，用于對透明和半透明的單層薄膜或薄膜堆疊進行精確和精確的非破壞性層厚測量。保證高度準確和可重復的測量。

POLOS  FR-ES 是一種緊湊、輕便的裝置，用于涂層表征。使用 FR-ES，用戶可以在 370 - 1700 nm 光譜范圍內(nèi)進行反射率和透射率測量。

FR-ES 平臺旨在提供 涂層表征性能。

FR-ES 可用于各種不同的應用，例如：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等。有三種配置可供選擇：

可見光/近紅外 （370 - 1020 nm）、NIR-N1 （850 - 1050 nm）、NIR （900 - 1700 nm）。

然后，有各種各樣的配件，例如：

濾光片可在某些光譜范圍內(nèi)阻擋光線

FR-Mic 用于非常小區(qū)域的測量

手動載物臺，25 x 25 mm、100 x 100 mm 或 200 x 200 mm

用于吸光度/透射率和化學濃度測量的膠片/比色皿支架

用于漫反射和總反射的積分球

通過不同模塊的組合，最終設置滿足任何最終用戶的需求。

polos  測量臺的應用：

大學和研究實驗室

半導體

生命科學

聚合物和光刻膠特性

化學測量

介電特性

生物 醫(yī)學

硬化涂層， 陽極氧化， 金屬零件加工

光學鍍膜

非金屬薄膜

FR-ES 370 - 1020 nm 光譜范圍

緊湊、輕便的臺式系統(tǒng)

廣泛應用于半導體、大學和研究實驗室、生命科學等領(lǐng)域

廣泛的附件

單擊分析（無需初始猜測）

品牌：POLOS 系列

產(chǎn)品編號：FR-ES-VIS/NIR 近紅外

大?。篎R-ES 系列

材料：臺式系統(tǒng)

厚度范圍：12 納米 - 100 微米

光譜范圍：370 - 1020 納米

光源 MTBF：鹵素燈（內(nèi)部）

 POLOS 用于半導體上的單點測量裝置