日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡
　　?利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，高分辨觀察和分析兼顧
　　?大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)
　　?減輕污染的高真空樣品倉(cāng)
　　?通過(guò)頂部過(guò)濾器(選配項(xiàng))實(shí)現(xiàn)多種材料對(duì)比度可視化
日立SU8220 在油墨觀測(cè)分析中的應(yīng)用
打印機(jī)墨粉的微觀結(jié)構(gòu)及形狀等直接影響著打印質(zhì)量，因此它受到廣泛的研究關(guān)注。利用日立場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU8220觀測(cè)的

日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8200系列
日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU8200系列（HITACHI UHR FE-SEM SU8200 Series，SU8220，SU8230，SU8240）采用日立高新技術(shù)公司開(kāi)發(fā)的冷場(chǎng)電子槍，實(shí)現(xiàn)超高分辨率下觀察的同時(shí)，穩(wěn)定的束流亦可滿足長(zhǎng)時(shí)間下的分析需求。在日立高新的新型冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)SU8200系列中，有SU8220、SU8230、SU8240三款機(jī)型，于5月20日開(kāi)始發(fā)售。

日立新研發(fā)的冷場(chǎng)電子槍

　　•利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，高分辨觀察和分析兼顧

　　•大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)

　　•減輕污染的高真空樣品倉(cāng)

　　•通過(guò)頂部過(guò)濾器(選配項(xiàng))實(shí)現(xiàn)多種材料對(duì)比度可視化
日立SU8220 在油墨觀測(cè)分析中的應(yīng)用
打印機(jī)墨粉的微觀結(jié)構(gòu)及形狀等直接影響著打印質(zhì)量，因此它受到廣泛的研究關(guān)注。利用日立場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU8220觀測(cè)的墨粉顆粒，不僅可直接觀測(cè)到表面的細(xì)節(jié)形貌及成分襯度。搭載能譜分析還能分析油墨表面的成分。
日立場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡用SU8220系列觀察太陽(yáng)能薄膜電池
銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)能電池板以其高轉(zhuǎn)換率和低成本備受期待。 由于各層的顆粒尺寸和層結(jié)構(gòu)質(zhì)量會(huì)影響發(fā)電表現(xiàn)，因此用SEM觀察斷面結(jié)構(gòu)非常重要。

　【主要特點(diǎn)】  

　日立高新新研發(fā)的冷場(chǎng)電子槍

　　•利用電子槍轟擊后的高亮度穩(wěn)定期，高分辨觀察和分析兼顧

　　•大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)

　　•減輕污染的高真空樣品倉(cāng)

　　•通過(guò)頂部過(guò)濾器(選配項(xiàng))實(shí)現(xiàn)多種材料對(duì)比度可視化