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詳細(xì)摘要： DN410IC/610IC厭氧培養(yǎng)箱 可進(jìn)行360℃高溫耐熱測(cè)試和熱處理，適用溫度范圍廣，溫度控制準(zhǔn)確度高，易操作，定值運(yùn)行、程序運(yùn)行、快速自動(dòng)停止運(yùn)行、自動(dòng)停...

詳細(xì)摘要： C1-007/C1-008厭氧高溫氣氛爐C1-007用于電子無(wú)器件高溫處理工藝，C1-008用于光刻工藝后段，光刻膠固化。

詳細(xì)摘要： LAI-3D厭氧培養(yǎng)箱由恒溫培養(yǎng)室，厭氧操作室、取樣室、氣路及電路控制系統(tǒng)、箱架等部分組成。

詳細(xì)摘要： LAI-3T厭氧箱由恒溫培養(yǎng)室，厭氧操作室、取樣室、氣路及電路控制系統(tǒng)、箱架等部分組成。

詳細(xì)摘要： LAI-3DT桌上型厭氧箱由恒溫培養(yǎng)室，厭氧操作室、取樣室、氣路及電路控制系統(tǒng)、箱架等部分組成。

詳細(xì)摘要： LAL厭氧培養(yǎng)系統(tǒng)由二氧化碳和恒溫恒濕培養(yǎng)箱、取樣室、厭氧操作室、氣路及電路控制系統(tǒng)、箱架等部分組成。

詳細(xì)摘要： LAI-3雙門(mén)厭氧培養(yǎng)箱是一種可在無(wú)氧環(huán)境下進(jìn)行細(xì)菌培養(yǎng)及操作的裝置，它能提供嚴(yán)格的厭氧狀態(tài)、恒定的溫度培養(yǎng)條件和具有一個(gè)系統(tǒng)化、科學(xué)化的工作區(qū)域

詳細(xì)摘要： LAI-3TX厭氧培養(yǎng)箱是一種可在無(wú)氧環(huán)境下進(jìn)行細(xì)菌培養(yǎng)及操作的裝置，它能提供嚴(yán)格的厭氧狀態(tài)、恒定的溫度培養(yǎng)條件和具有一個(gè)系統(tǒng)化、科學(xué)化的工作區(qū)域。

詳細(xì)摘要： LAI-3T-N厭氧培養(yǎng)箱采用7吋大屏幕真彩觸摸屏微電腦控制型，能準(zhǔn)確直觀地控制培養(yǎng)箱溫度等參數(shù)。

詳細(xì)摘要： DTN430C/630C/450C/650C潔凈厭氧高溫氣氛爐潔凈度100級(jí)、氧濃度低于20ppm的氣氛爐，主要應(yīng)用于固化半導(dǎo)體晶圓等。

詳細(xì)摘要： DNN430C/630C/460C/660C厭氧高溫氣氛爐氧濃度20ppm、高工作溫度600℃的氣氛爐，適用于無(wú)氧環(huán)境下的高溫?zé)崽幚怼?