X-Strata920是一款簡(jiǎn)潔、堅(jiān)固和可靠的質(zhì)量控制XRF臺(tái)式熒光系統(tǒng)，用于簡(jiǎn)便、快速的鍍層厚度測(cè)試和材料分析。

The X-Strata920可應(yīng)用于常規(guī)金屬處理、電子元器件制造和金屬測(cè)定（如珠寶鑒定）等行業(yè)，完成單層或多層厚度測(cè)量。

主要特點(diǎn)包括：
成本低、快速、非破壞的EDXRF分析 
可完成至多4層鍍層（另加底材）和15個(gè)元素的鍍層厚度測(cè)試，自動(dòng)修正X射線重疊譜線 
的多元素辨識(shí)，廣泛覆蓋元素表上從鈦（原子序數(shù)22號(hào)）到鈾（92號(hào)）各元素 測(cè)厚行業(yè)20年知識(shí)和經(jīng)驗(yàn)的積淀

使用廣受推崇的能量色散X射線熒光（EDXRF）技術(shù), X-Strata920可實(shí)現(xiàn)如下測(cè)試要求：
符合ISO3497標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法：金屬鍍層——X射線光譜法測(cè)量鍍層厚度

符合ASTM B568標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法：X射線光譜儀測(cè)量鍍層厚度，包括金屬和部分非金屬鍍層 

至多同時(shí)分析25種元素

“井深式”樣品倉設(shè)計(jì)，可以測(cè)量很小到很大的廣泛尺寸的樣品/零件 ，可測(cè)量樣品大高度為160mm (6.3”)。樣品臺(tái)支架可放置在“深井”中的4個(gè)位置的卡槽上，使得不同樣品都可以方便地測(cè)量。
樣品臺(tái)支架放置在標(biāo)準(zhǔn)位置（上層）時(shí)，就是“開槽式樣品倉”，可以測(cè)量大型平板樣品，如尺寸大于儀器寬度的印制線路板。所有樣品可以很方便地放置并定位到待測(cè)點(diǎn)。
Z軸自動(dòng)控制（Z向行程：43mm/1.7”） §樣品倉內(nèi)部尺寸：152 x 279 x 508mm (6 x 11 x 20") (高x寬x深D)

經(jīng)實(shí)踐驗(yàn)證、堅(jiān)固、耐用的設(shè)計(jì)，可在絕大多數(shù)嚴(yán)苛的工業(yè)條件下使用。
空間占用小 –節(jié)約寶貴的工作臺(tái)空間，也可近產(chǎn)線放置。
§計(jì)算機(jī)提供USB和以太網(wǎng)接口用于連接打印機(jī)、光驅(qū)和網(wǎng)絡(luò)。

鐳射用于自動(dòng)精確定位X射線光管/檢測(cè)器與被測(cè)樣品到佳測(cè)試距離。
“一鍵操作”將測(cè)試頭移動(dòng)到佳位置，同時(shí)將樣品圖像定焦（顯示在屏幕上）。
自動(dòng)而簡(jiǎn)單的操作提高儀器測(cè)試的再現(xiàn)性，并將人為測(cè)量誤差降到低.
注：測(cè)試距離為12.7mm (0.5”)，由X射線測(cè)試頭自動(dòng)調(diào)節(jié)高度（Z軸）。

牛津儀器生產(chǎn)的、經(jīng)實(shí)踐驗(yàn)證的50瓦X射線光管 
微聚焦型鎢靶X射線光管，產(chǎn)生高通量X射線，經(jīng)過準(zhǔn)直器，得到細(xì)束X射線。 這個(gè)“聚焦X射線束”可對(duì)小樣品或者樣品上小測(cè)試點(diǎn)進(jìn)行高精度的分析。

高分辨率、大面積、封氙氣的正比例計(jì)數(shù)器 
結(jié)合二次濾波器來大化靈敏度，以獲得佳元素檢測(cè)。

包含二次濾波機(jī)制和鈷濾波器用于X射線重疊譜的修正。
標(biāo)準(zhǔn)鈷（Co）濾波器，用于同時(shí)含有鎳（Ni）和銅（Cu）的樣品，如 ：NiP/Cu, **/Ni/Cu, **/Ni/Cu alloy。 注 1)：** 指樣品上層其他元素 注2)：本配置包包含一個(gè)Co二次濾波器，多可裝三個(gè)濾波器。