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M1—Mistrial X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

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更新時(shí)間:2018-06-16 15:21:24瀏覽次數(shù):613

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M1—Mistrial X射線熒光鍍層測(cè)厚儀是Bruker布魯克推出的一款簡(jiǎn)潔、堅(jiān)固和可靠的質(zhì)量控制XRF臺(tái)式熒光系統(tǒng),用于簡(jiǎn)便、快速的鍍層厚度測(cè)試和材料分析。

詳細(xì)介紹

M1—Mistrial X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

Mistrial系列Bruker布魯克推出的一款簡(jiǎn)潔、堅(jiān)固和可靠的質(zhì)量控制XRF臺(tái)式熒光系統(tǒng),用于簡(jiǎn)便、快速的鍍層厚度測(cè)試和材料分析。

 

Mistrial可應(yīng)用于常規(guī)金屬處理、電子元器件制造和金屬測(cè)定(如珠寶鑒定)等行業(yè),完成單層或多層厚度測(cè)量。

 

M1—Mistrial X射線熒光鍍層測(cè)厚儀主要特點(diǎn)包括:

§  成本低、快速、非破壞的EDXRF分析

§  可完成至多12層鍍層(另加底材)和25個(gè)元素的鍍層厚度測(cè)試,

§  的多元素辨識(shí),廣泛覆蓋元素表上從鈦(原子序數(shù)22號(hào))到鈾(92號(hào))各元素

 

M1—Mistrial X射線熒光鍍層測(cè)厚儀使用廣受推崇的能量色散X射線熒光(EDXRF)技術(shù)Mistrial可實(shí)現(xiàn)如下測(cè)試要求:

§ 符合ISO3497標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法:金屬鍍層——X射線光譜法測(cè)量鍍層厚度

§ 符合ASTM B568標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法:X射線光譜儀測(cè)量鍍層厚度,包括金屬和部分非金屬鍍層

§ 至多同時(shí)分析25種元素

 

儀器技術(shù)規(guī)格:

 

 

參數(shù)M1 MISTRAL
元素測(cè)量范圍P(15)-U(92)
樣品室大小420 x 400 x 220 mm
外部尺寸450 x 550 x 420 mm
Z軸行程(樣品大高度)180 mm
測(cè)量空氣
樣品臺(tái)自動(dòng)Z軸、固定或自動(dòng)XY軸
平臺(tái)移動(dòng)分辨率< 30 μm
自動(dòng)對(duì)焦,CCD相機(jī)標(biāo)準(zhǔn),CCD相機(jī)
激發(fā)系統(tǒng)50 kV 或40 kV W (Rh, Mo, Cr)
光斑大小0.1--1.5 mm,采用準(zhǔn)直器
探測(cè)器PC或SDD
大計(jì)數(shù)率PC: 20,000 cps, SDD: 40,000 cps
Mn Ka時(shí)的能量分辨率PC: 約 900 eV, SDD: 150 eV
可測(cè)層數(shù)多12(每層25種元素)

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