新一代曝光光刻機(jī)UV KUB 3

新一代曝光光刻機(jī)UV KUB 3是一款集成式桌面型紫外曝光光刻機(jī)，其 采用 365nm 紫外 LED 冷光源以及高精密光學(xué)準(zhǔn)直系 統(tǒng)，可實現(xiàn) 1um 的光刻精度和小于 2°的發(fā)散角。UV KUB 3采用開放式樣品盤，可以進(jìn)行不同模式的曝光 光刻，如軟接觸或硬接觸模式；同時配備了高精密 的位移臺，輔以雙 CCD 成像系統(tǒng)，可在 5 分鐘內(nèi)實 現(xiàn) 1um 的對位精度。

特色

• UV LED 光源
• 設(shè)計緊湊，操作簡單
• 高精度 365nm +/- 5nm 單色光光源
• 可進(jìn)行軟接觸和硬接觸曝光光刻（含
• 壓力測量傳感器）
• 兼容目前市場上的全部光刻膠
• 分辨率: < 1µm

• 手柄自動巡航對位，對位精度: 1µm

主要性能

• 365nm 單色 LED 光源，帶寬小于 10nm
• 圖像輔助的自動巡航 PAD 操作對準(zhǔn)定位系統(tǒng)
• 采用高光強(qiáng) LED 冷光源，避免光源發(fā)熱引起的溫度
• 變化干擾，提高光刻面均勻性；
• 光源壽命大于 10000 小時，減少維護(hù)及使用成本；
• 可調(diào)節(jié) UV 光強(qiáng)
• 友好的觸摸屏操作界面，可編程光刻工藝；
• 無需預(yù)熱，快速開始進(jìn)入工作狀態(tài)；
• 全封閉紫外曝光區(qū)域，保障操作人員的安全；
• 半自動晶圓上下料系統(tǒng)
• 低功耗，節(jié)能環(huán)保

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性能指標(biāo)

• zui小光刻尺寸 1µm
• 對位精度 1µm
• 紫外光源波長 365nm +/- 5nm
• 光源光強(qiáng) 35mW/cm² +/- 10%
• 光刻區(qū)域工作溫度變化 < 1°C
• 工藝時間 (連續(xù)/非連續(xù)模式) From 1s to 1h
• 可保存光刻工藝數(shù)量 無限制
• 外形尺寸 475x480x515mm
• 總重量 55kg / 121lbs
• 觸摸屏尺寸 15.6” diagonal,color
• 供電電源 100V/240V –
• 50Hz/60Hz
• 功耗 180 Watts