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KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列

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更新時(shí)間:2022-08-05 13:54:23瀏覽次數(shù):1671

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產(chǎn)品簡介

價(jià)格區(qū)間 面議 儀器種類 微流控芯片系統(tǒng)
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油
法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn),其研發(fā)的KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,能夠處理大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨(dú)的冷卻單元。

詳細(xì)介紹

KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列

圖片

 

簡介

法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn),其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上,能夠處理大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外,UV-KUB系列*的設(shè)計(jì),保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性,其小分辨率可達(dá)2μm,大發(fā)散角小于2°

本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

規(guī)格參數(shù)

 

功能圖解

UV-KUB 2型光刻機(jī),是市場(chǎng)上一款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機(jī),其配備了基于LED光源的光學(xué)頭,使用壽命大大提高,結(jié)構(gòu)小巧,性價(jià)比高,非常適合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。

UV-KUB 3是一款帶對(duì)位功能的UV-LED曝光機(jī),光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機(jī)代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測(cè)量以及對(duì)齊坐標(biāo)的記錄等功能,可以實(shí)現(xiàn)預(yù)對(duì)準(zhǔn),這樣,用戶再通過操作手柄便能方便的進(jìn)行終的對(duì)準(zhǔn)操作。

UV-KUB 2 

UV-KUB 3

 

應(yīng)用系統(tǒng)

微流控芯片

MEMS器件

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