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上海申思特自動(dòng)化設(shè)備有限公司

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自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
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【簡(jiǎn)單介紹】
自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
巨磁電阻傳感器與其他類型傳感器相比,具有靈敏度高、功耗小、成本低等優(yōu)點(diǎn),尤其可以有效檢測(cè)微弱磁場(chǎng)的存在和變化,給工業(yè)設(shè)備自動(dòng)控制、商標(biāo)檢測(cè)、精密測(cè)量技術(shù)等領(lǐng)域帶來(lái)嶄新的變革。
【詳細(xì)說(shuō)明】

自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
巨磁電阻傳感器與其他類型傳感器相比,具有靈敏度高、功耗小、成本低等優(yōu)點(diǎn),尤其可以有效檢測(cè)微弱磁場(chǎng)的存在和變化,給工業(yè)設(shè)備自動(dòng)控制、商標(biāo)檢測(cè)、精密測(cè)量技術(shù)等領(lǐng)域帶來(lái)嶄新的變革。以二次陽(yáng)極氧化鋁(AAO)為模板,采用單槽控電位電沉積法制備了FeMn合金納米線,在此基礎(chǔ)上,采用雙槽控電位電沉積法制備了NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線陣列。

自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
通過(guò)掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微(TEM)、X射線能譜分析儀(EDS)對(duì)納米線的微觀形貌和組成成分進(jìn)行了表征,利用物理性能測(cè)試系統(tǒng)(PPMS)測(cè)試了納米線的巨磁電阻,并以NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線、 NiFe/Cu/Co/Cu多層膜和NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線為芯片,設(shè)計(jì)并制備了巨磁電阻E+E位移傳感器,對(duì)其性能進(jìn)行了研究。SEM下觀察到FeMn合金納米線和NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線排列整齊、分布均勻、長(zhǎng)徑均一,直徑約為80nm。TEM下可觀察到清晰的層狀結(jié)構(gòu)。XRD測(cè)試表明,F(xiàn)eMn合金納米線在面心立方(111)晶面擇優(yōu)生長(zhǎng)。EDS測(cè)試表明FeMn合金納米線組成為Fe_(50)Mn_(50)。提出了一種E+E位移傳感器靜態(tài)特性參數(shù)的校準(zhǔn)方法。按照阿貝測(cè)量原理,設(shè)計(jì)了一個(gè)的連接裝置和定位夾緊裝置--開(kāi)口彈簧襯套,把E+E位移傳感器可靠的安裝在萬(wàn)能測(cè)長(zhǎng)儀的尾座孔中,使其與萬(wàn)能測(cè)長(zhǎng)儀組成一個(gè)測(cè)量系統(tǒng),利用萬(wàn)能測(cè)長(zhǎng)儀的測(cè)量功能,實(shí)現(xiàn)一種E+E位移傳感器靜態(tài)特性參數(shù)測(cè)量和校準(zhǔn)的新方法,解決其靜態(tài)特性參數(shù)的測(cè)量和校準(zhǔn)問(wèn)題。非磁性層厚度、NiFe自由層厚度和NiFe被釘扎層厚度和FeMn被釘扎層厚度對(duì)自旋閥多層納米線巨磁電阻效應(yīng)影響較大。隨著非磁性層(Cu層)厚度的增加,自旋閥多層納米線的巨磁電阻值先增大后減小,當(dāng)Cu層厚度為3nm時(shí),巨磁電阻性能達(dá)到*;隨著NiFe自由層厚度的增加,自旋閥多層納米線巨磁電阻值先增大后減小,當(dāng)NiFe自由層厚度為5nm時(shí),巨磁電阻性能達(dá)到*;NiFe被釘扎層厚度為7nm時(shí),巨磁電阻性能達(dá)到*。搭建了巨磁電阻E+E位移傳感器實(shí)驗(yàn)平臺(tái),確定了測(cè)試條件和手段,考察了不同巨磁電阻材料的傳感器芯片對(duì)巨磁電阻E+E位移傳感器性能的影響。

自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計(jì)與制備
NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線作為傳感器芯片時(shí),巨磁電阻E+E位移傳感器性能*。三種傳感器芯片在不同環(huán)境溫度下,傳感器性能變化不大,具有良好的溫度穩(wěn)定性,低溫環(huán)境更有利于巨磁電阻E+E位移傳感器性能的提高。



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