GM2000/04高剪切膠體磨一種粒徑均一的納米尖晶石鐵氧體的制備方法，屬于金屬氧化物制備技術領域。先在膠體磨中將金屬離子還原成高度分散的納米金屬粒子，然后將含有納米金屬粒子的混合溶液轉入到聚四氟乙烯內膽的高壓反應釜中水熱晶化，粒徑為5至200納米的尖晶石鐵氧體粒子。其優(yōu)點在于：膠體磨的高速剪切作用使還原得到的金屬粒子高度分散，從而在水熱晶化過程中可以得到粒徑均一的納米尖晶石鐵氧體；反應在溶液中進行，通過調節(jié)反應物濃度、反應溫度、反應時間等參數(shù)可以實現(xiàn)納米粒子的粒徑大小的控制；由于反應中不需要高溫焙燒過程，操作簡單、制備成本和能耗低，有利于工業(yè)化應用。

GM2000/04高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能琪到各種半濕體及乳狀液物質德粉碎、乳化、均質和混合，主要技術指標已達到國外同類產(chǎn)品的較較較較較較良好水平。

運行原理：

高剪切膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎，精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn).的定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。GM2000膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。