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CVD-銅基硅基單層/少層/多層氮化硼B(yǎng)N薄膜

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更新時(shí)間:2020-05-14 15:06:33瀏覽次數(shù):387次

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CVD-銅基硅基單層/少層/多層氮化硼B(yǎng)N薄膜
在50um厚銅箔上生長(zhǎng)了多層氮化硼薄膜。h-B N是一種直接能隙為6ev的體,B-N原子間具有強(qiáng)的離子鍵。我們采用h-BN化學(xué)氣相沉積工藝,使缺陷密度保持在較低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加單疇尺寸以降低1D晶粒缺陷濃度。多層h-BN板尺寸約為5cm x 5cm或約2x2英寸。

CVD-銅基硅基單層/少層/多層氮化硼B(yǎng)N薄膜

西安齊岳生物供應(yīng)一系列的納米材料,供應(yīng)

CVD-少層氮化硼B(yǎng)N薄膜
硅基單層氮化硼B(yǎng)N薄膜
CVD-多層氮化硼B(yǎng)N薄膜
CVD銅基多層氮化硼薄膜

CVD-銅基硅基單層/少層/多層氮化硼B(yǎng)N薄膜

在50um厚銅箔上生長(zhǎng)了多層氮化硼薄膜。h-B N是一種直接能隙為6ev的體,B-N原子間具有強(qiáng)的離子鍵。我們采用h-BN化學(xué)氣相沉積工藝,使缺陷密度保持在較低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加單疇尺寸以降低1D晶粒缺陷濃度。多層h-BN板尺寸約為5cm x 5cm或約2x2英寸。

h-BN的性質(zhì)

在50um厚銅箔上生長(zhǎng)了多層氮化硼薄膜。h-B N是一種直接能隙為6ev的體,B-N原子間具有強(qiáng)的離子鍵。我們采用h-BN化學(xué)氣相沉積工藝,使缺陷密度保持在較低水平(~1E10-1e11cm-2),并增加單疇尺寸以降低1D晶粒缺陷濃度。多層h-BN板尺寸約為5cm x 5cm或約2x2英寸。

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溫馨提醒:用于科研哦(zhn2020.05.14)

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