目錄:上海屹持光電技術(shù)有限公司>>光學(xué)元器件>>材料和鍍膜>> LT-GaAs低溫砷化鎵基片外延生長定制
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更新時(shí)間:2024-08-06 10:38:57瀏覽次數(shù):938評(píng)價(jià)
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供貨周期 | 兩周 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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GaAs砷化鎵是Ⅲ-Ⅴ族元素化合物,黑灰色固體,熔點(diǎn)1238℃。它在600℃以下能在空氣中穩(wěn)定存在,并且不為非氧化性的酸侵蝕。砷化鎵可作半導(dǎo)體材料,其電子遷移率高、介電常數(shù)小,能引入深能級(jí)雜質(zhì)、電子有效質(zhì)量小,能帶結(jié)構(gòu)特殊,可作外延片。
1、半導(dǎo)體光電子器件結(jié)構(gòu)生長
我們可在GaAs砷化鎵基底上生長高質(zhì)量AlAs、GaAs、InAs、AlGaAs、AlInAs和InGaAs材料外延薄膜層,適用于不同應(yīng)用。
2、低溫砷化鎵
對(duì)于某些應(yīng)用需要快速響應(yīng)裝置,例如光學(xué)探測器、可飽和吸收器 或光電導(dǎo)天線。我們提供低溫外延生長器件,響應(yīng)時(shí)間短至1 ps。
我們可提供以下在GaAs襯底上生長的一個(gè)或兩個(gè)單層的低溫砷化鎵。
低溫砷化鎵基片外延生長定制參數(shù)如下:
砷化鎵晶片直徑:2" 或4"
最大薄膜疊層厚度:5 μm
規(guī)格:
LT-GaAs-50.8:2"(50.8 mm)LT-GaAs晶片
LT-GaAs-100:4"(100 mm)LT-GaAs晶片
LT-InGaAs-100:4"(100 mm)LT-InGaAs晶圓片
LT-GaA-100-C:具有定制金屬結(jié)構(gòu)的4"(100 mm)LT-GaAs晶圓片
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)