LAP-NM10000納米粒度儀
一、納米激光粒度分析儀產(chǎn)品介紹
LAP-NM10000納米粒度儀基于光子相關(guān)光譜技術(shù),以本公司技術(shù)研制的大動態(tài)范圍高速光子相關(guān)器為核心器件,采用本公司在顆粒粒度反演算法上的研究成果,因此具有準確度高、重復性高的特點,它采用高速數(shù)字相關(guān)器和專業(yè)的高性能光電倍增管作為核心器件,具有快速、高分辨率、重復及準確等特點,是納米顆粒粒度測定的產(chǎn)品。
二、納米激光粒度分析儀測試原理
本儀器采用動態(tài)光散射原理和光子相關(guān)光譜技術(shù),根據(jù)顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快,大顆粒布朗運動速度慢,激光照射這些顆粒,不同大小的顆粒將使散射光發(fā)生快慢不同的漲落起伏。光子相關(guān)光譜法就根據(jù)特定方向的光子漲落起伏分析其顆粒大小。因此本儀器具有原理*、精度*的特點,從而保證了測試結(jié)果的真實性和有效性;是納米激顆粒粒度測定的儀器。
三、性能特點
1、大動態(tài)范圍高速光子相關(guān)器:采用技術(shù)設(shè)計的光子相關(guān)器,以高、低速通道搭配的結(jié)構(gòu),有效解決了硬件資源與通道數(shù)量之間的矛盾,實現(xiàn)了1010的動態(tài)范圍,并保證了相關(guān)函數(shù)基線的穩(wěn)定性。
2、優(yōu)選反演算法:采用較優(yōu)擬合累積反演法和基于V-曲線判斷準則的正則化算法反演顆粒粒徑及其粒度分布,使測量結(jié)果的準確度和重復性均小于1%。
3、*的抗噪能力:采用小波消噪技術(shù),解決了散射光強較低時,噪聲過大對測量結(jié)果的影響。
4、穩(wěn)定的光路系統(tǒng):采用恒溫532nm固態(tài)激光光源和單模保偏光纖技術(shù)搭建而成的光路系統(tǒng),保證了光子相關(guān)光譜測量系統(tǒng)的穩(wěn)定性和準確度。
5、高精度溫控系統(tǒng):基于半導體制冷裝置,采用自適應(yīng)PID控制算法,使溫度控制精度達±0.1℃。
6、高靈敏度光子探測器:采用專業(yè)級高性能光電倍增管,對光子信號具有*的靈敏度和信噪比。光子計數(shù)器采用邊沿觸發(fā)模式,瞬間捕捉光子脈沖的變化。
四、軟件功能
1、一鍵啟動式測量,自動生成測試報表
2、自動調(diào)整散射光強,無需用戶干涉
3、自動優(yōu)化光子相關(guān)器參數(shù),以適應(yīng)不同樣品
五、測試報告
山東日科的測試結(jié)果如下:
六、技術(shù)指標
LAP-NM10000納米激光粒度儀技術(shù)參數(shù)及詳細配置 | |
型號 | LAP-NM10000 |
執(zhí)行標準 | GB/T 29022-2012/ISO 22412:2008 |
測試范圍 | 1-10000nm(與樣品有關(guān)) |
ZETA電位范圍 | ±500mv |
分子量范圍 | 1000~2×107Da |
激光 | λ=635nm,恒溫半導體激光器 |
濃度范圍 | 0.1ppm—40%w/v (與樣品有關(guān)) |
探測器 | HAMAMATSU光電倍增管(PMT),使用單模保偏光纖 |
相關(guān)器 | 采樣時間100ns-50ms,相關(guān)通道1024,較大動態(tài)范圍1010 |
散射角 | 90° |
樣品池 | 10mm*10mm , 4ml |
溫度范圍 | 8-60℃(溫度到0.1℃) |
數(shù)據(jù)處理 | 較優(yōu)擬合累積分析法和改進正規(guī)化算法,可給出平均粒徑及粒度分布曲線 |
軟件功能 | 一鍵式測量,自動優(yōu)化測量參數(shù),輕松生成測試報表 |
輸出項目 | 平均粒徑、多分散系數(shù)、粒度分布曲線、粒度分布表等 |
測試速度 | <5Min/次 |
準確性誤差 | <1% |
重復性誤差 | <1% |
外形尺寸 | 390mm×255mm×240mm(目前體積較小的納米粒度儀) |
電源 | AC100~260V, 50/60Hz, 較大功率80W |
使用環(huán)境 | 溫度:15~40℃,濕度20~70%。無冷凝 |