EVG^®6200 NT

SmartNIL UV Nanoimprint Lithography System

EVG®6200NT   SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)，采用EVG專有的SmartNIL®技術(shù)，大可達(dá)150 mm

技術(shù)數(shù)據(jù)

這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以小的占地面積提供了新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對齊和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。

SmartNIL是行業(yè)的NIL技術(shù)，可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。 SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。 EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印技術(shù)的長期前景，納米壓印技術(shù)是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，高產(chǎn)量的替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過程和模板

特征

頂側(cè)和底側(cè)對齊能力

高精度對準(zhǔn)臺

自動楔形補(bǔ)償序列

電動和配方控制的曝光間隙

支持新的UV-LED技術(shù)

小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版

附加功能：鍵對齊、紅外對準(zhǔn)、

智能NIL®

µ接觸印刷

EVG6200NT技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL®：大150毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程

柔軟的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準(zhǔn)

軟NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL®：≤±3 µm

自動分離

柔紫外線NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔軟的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持