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　　一、等離子體介紹

　　1.1產(chǎn)品原理

　　通過對工藝氣體施加電場使電離化為等離子體。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、自由活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)進行氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學(xué)反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì)，從而優(yōu)化材料表面性能，實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。

　　1.2行業(yè)應(yīng)用

　　二、產(chǎn)品介紹

　　2.1產(chǎn)品概述

　　半導(dǎo)體等離子去膠機(Plasma cleaner)是國內(nèi)的“數(shù)字化大氣等離子清洗機”，一款擁有強大的“CPU”的大等離子清洗機。采用穩(wěn)定性高的移相全橋軟開關(guān)電路，擁有數(shù)字通信及模擬通信兩種數(shù)據(jù)傳輸方式，通過ARM芯片強大的數(shù)據(jù)處理功能，實現(xiàn)設(shè)備數(shù)字化控制，客戶產(chǎn)線，可達到中央控制系統(tǒng)統(tǒng)一監(jiān)控，使清洗效果更穩(wěn)定、更持久，抗干擾性能增強，減低故障率，控制維護成本，提高產(chǎn)能，有效減低生產(chǎn)成本。

　　2.2產(chǎn)品優(yōu)勢

　　(1)軍工級硬件設(shè)計，使用環(huán)境溫度范圍可達到-25℃-50℃，適應(yīng)不同的嚴(yán)苛場景，MTBF時間可達到≥190Khrs MIL-HDBK-217F(25℃)；

　　(2)數(shù)字化控制，顯示屏顯示，實時監(jiān)控，抗干擾強；

　　(3)采用TI品牌的移相全橋軟開關(guān)電路和PFC功率因素校正，相對模擬硬開關(guān)電路效率可提高10%以上，響應(yīng)時間小于0.1s，抗干擾性強；

　　(4)搭載ST品牌的ARM芯片，人機交互簡單明了，強大的遠(yuǎn)程調(diào)試通訊功能，無縫對接任意的應(yīng)用場景，自主研發(fā)的軟件對實時采集的數(shù)據(jù)進行智能判斷并協(xié)調(diào)工作，可實現(xiàn)功率自匹配，穩(wěn)定無變化；

　　(5)支持RS-485/232數(shù)字通信接口和模擬通信接口，強大的遠(yuǎn)程通信功能；

　　(6)具有6種檢測功能：氣壓檢測、主板溫度檢測、變壓器弧壓檢測、變壓器初級峰值電流檢測，電網(wǎng)電流檢測，噴槍轉(zhuǎn)速檢測；

　　(7)具有十余種故障報警功能，故障排查定位時間縮短80%以上；

　　(8)等離子發(fā)生器同時支持射流噴槍、旋轉(zhuǎn)噴槍及線性寬幅，一鍵設(shè)置，隨時變換；

　　(9)具有過溫防護、過載防護、短路、斷路、漏電防護、各種誤操作保護等防護功能。

　　2.3半導(dǎo)體等離子去膠機結(jié)構(gòu)

　　結(jié)構(gòu)：高壓數(shù)字電源發(fā)生器、等離子發(fā)生裝置噴槍與控制系統(tǒng)組成。

　　（A）高壓數(shù)字電源發(fā)生器：

　　等離子體的產(chǎn)生需要高壓激勵，本產(chǎn)品采用中頻電源進行激勵，數(shù)字化控制方式，可實現(xiàn)功率自匹配，保證功率的穩(wěn)定輸出，且輸出精度高，輸出功率不受氣壓波動，市網(wǎng)電壓波動，噴槍電極老化等影響。參數(shù)需根據(jù)樣品實際情況進行調(diào)節(jié)，以便達到處理效果。

　?。˙）等離子發(fā)生裝置噴槍：

　　  等離子去膠機搭配高速旋轉(zhuǎn)噴槍：主要處理大面積、形狀較復(fù)雜的材料，處理面積范圍20-80mm，可與原有的生產(chǎn)流水線搭配，實現(xiàn)全自動在線生產(chǎn)，節(jié)約人力成本。

　?。–）控制系統(tǒng)：

　　控制系統(tǒng)作用在于控制SPA-5800大氣等離子清洗機的運行，以及整體系統(tǒng)的保護。

　　2.4產(chǎn)品規(guī)格

2.5

　　2.5.2電源尺寸圖

　　三、規(guī)格要求

　　3.1 廠務(wù)規(guī)格要求

3.2

　　注：耗材的使用壽命時間與現(xiàn)場的使用條件有關(guān)系，以下壽命時間僅供參考。