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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子,綜合 |
|---|
手動激光功率衰減器LPA-M
主要特點
l 寬波長采用240 nm-2µm
l 有成本效率的
l 適用于高功率工業(yè)激光器
l 提供帶水冷功能的型號
應(yīng)用實例
l 激光微加工
l 激光功率衰減
l 研究
描述
4Lasers設(shè)計和制造工業(yè)級手動控制激光功率衰減器，用于240 nm至2000 nm的紫外線、可見光和近紅外光譜范圍。
手動激光功率衰減器LPA-M的所有光學元件都是為高LIDT而制造的，即使在工業(yè)應(yīng)用中與高功率激光器一起使用時，也能提供穩(wěn)定可靠的性能。
規(guī)格
可變手動激光功率衰減器規(guī)格 | |
調(diào)整 | 手冊 |
輸入和輸出凈孔徑 | 8 mm |
尺寸（高x寬x長） | 57 x 72 x 105 mm |
產(chǎn)品信息
項目 | 設(shè)計波長 | 激光損傷閾值 | 衰減范圍 | 冷卻系統(tǒng) |
LPA-M | 200-300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 無源，導電 |
LPA-M | 350-2300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 無源，導電 |
LPA-M-W | 200-300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 水 |
LPA-M-W | 350-2300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 水 |
LPA-M-W | 1064 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 1030 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 532 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 515 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 343 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 水 |
LPA-M-W | 355 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 水 |
LPA-M-W | 266 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 水 |
LPA-M-W | 257 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 水 |
LPA-M | 1064 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 無源，導電 |
LPA-M | 1030 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 無源，導電 |
LPA-M | 532 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 無源，導電 |
LPA-M | 515 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 無源，導電 |
LPA-M | 343 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 無源，導電 |
LPA-M | 355 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 無源，導電 |
LPA-M | 266 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 無源，導電 |
LPA-M | 257 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 無源，導電 |
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