ChemTron  DAB-2 壓力消解罐壓力高達(dá) 200bar，為難以消解的樣品提供理想的解決方案，可配套加熱單元，加樣簡(jiǎn)單便捷，實(shí)驗(yàn)重復(fù)性強(qiáng)。

水熱合成實(shí)驗(yàn)
水熱合成法是指溫度為 100 ～ 1000 ℃、壓力為1MPa ～ 1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學(xué)反應(yīng)所進(jìn)行合成的方法。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由于反應(yīng)處于分子水平，反應(yīng)活 性提高，因而水熱反應(yīng)可以替代某些高溫固相反應(yīng)。又由于水熱反應(yīng)的均相成核及非均相成核機(jī)理與固相反應(yīng)的擴(kuò)散機(jī)制不同，因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。水熱合成可分為：水熱氧化，水熱沉淀，水熱合成，水熱還原，水熱分解，水熱結(jié)晶等。

安 全
壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度 PTFE內(nèi)襯，確保實(shí)驗(yàn)操作的可靠性和安 全性。
> 容器均經(jīng)過 TUV 測(cè)試認(rèn)證
> 操作壓力Z高可達(dá) 200bar
> Z高溫度可達(dá) 250℃，實(shí)驗(yàn)周期可達(dá)數(shù)天
> 爆破片保 證操作人員的安 全
> 特 殊密封技術(shù)保 證易揮發(fā)物質(zhì)不會(huì)流失和擴(kuò)散
> 當(dāng)消解罐被打開時(shí)，控制壓力將會(huì)釋放

內(nèi)襯技術(shù)
根據(jù)容積不同，TFM-PTFE 高密度內(nèi)襯從 50ml 到250ml 范圍可選，安 全耐腐蝕，使用壽命長，操作簡(jiǎn)單便捷

可靠的反應(yīng)控制
高精度溫度控制器確保參數(shù)統(tǒng) 一監(jiān)控，該控制器可以進(jìn)行升溫程序編程。Chemtron 消解罐可與實(shí)驗(yàn)室日常工作結(jié)合起來，進(jìn)行隔夜實(shí)驗(yàn)測(cè)試，避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩

加熱
Chemtron 針對(duì)不同體積的消解罐，可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置，Z多可支持 12 位消解罐同時(shí)進(jìn)行溫度控制

應(yīng)用
制備超細(xì)顆粒，無機(jī)薄膜，微孔材料，超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解

ChemTron  DAB-2 壓力消解罐技術(shù)參數(shù)