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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
|---|---|---|---|
| 電源 | AC380V，50/60Hz，5線，50A | 廠務(wù)排氣 | 流量：2.0 m3/min |
| 外形尺寸 | 900×1750×1000mm（寬×高×深） | 腔體尺寸 | 450×450×500mm（寬×高×深） |
| 功率 | 0~600W |
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
PS培養(yǎng)皿親水性等離子表面清洗機 TC處理儀
一、激活鍵能-交聯(lián)作用：
PLASMA等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到樣品表面后，可以使樣品表面原有的化學(xué)鍵(C=C、C=O、C=N、Si-Si、Si-O等)產(chǎn)生斷裂，PLASMA等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。
二、對材料表面轟擊刻蝕-物理作用
物理作用其反應(yīng)機理主要是利用plasma等離子體里大量的離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著在表面的原子打掉，不但清除了材料表面原有的污染物和雜質(zhì)，還會產(chǎn)生刻蝕作用，將材料表面變“粗糙”，形成許多微細坑洼、溝壑，增大了材料表面的比表面積，提高材料表面的潤濕性能。由于離子在壓力較低時的平均自由基較長，得到能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有更多的能量作撞擊，所以若要以物理作用為主時，就必須控制在較低的壓力下進行反應(yīng)，為了保證真空等離子處理儀腔體內(nèi)較低的壓力，需要持續(xù)通入空氣或者其他惰性氣體(氬氣、氦氣等)，這樣處理效果較好。物理作用下的等離子處理適用于玻璃、陶瓷、金屬等材料。
三、形成新的官能團-化學(xué)作用：
化學(xué)作用其反應(yīng)機理主要是利用PS培養(yǎng)皿親水性等離子表面清洗機 TC處理儀里的自由基與材料表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，頻率和壓力較高時，對自由基的產(chǎn)生較有利，所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時，就必須配備較高的頻率和較高的壓力來進行反應(yīng)。
在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)、氨氣(NH3)等，這些氣體在真空等離子處理儀腔內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基，會在材料表面發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團，如羥基(-OH)、氨基(-NH2)、羧基(-COOH)、醛基(-CHO)等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性，起到活化改性的作用。化學(xué)作用下的等離子處理適用于塑料、高分子、油污、聚合物等材料。需要特別說明的是有一些材料處理既需要物理作用，也需要化學(xué)作用，例如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，氧化銦錫(ITO)、硅片、PET薄膜、二氧化硅(SiO2)、PTFE、二硫化鉬等，這個時候應(yīng)該選用等離子體激發(fā)頻率是13.56MHz的真空等離子處理儀。
四、PLASMA處理的方向性-粉末或細小顆粒：
Plasma清潔儀配備清洗托盤，把樣品放在托盤上，樣品朝上的一面等離子處理效果明顯，樣品貼著托盤的一面處理效果不明顯，原因是等離子體需要空間讓其做高速運動，而樣品貼著托盤的那一面，空間變小，不利于等離子體對樣品表面進行處理，所以樣品哪一面需要等離子處理，就把那一面朝上，如果兩面都需要等離子處理，常規(guī)的做法是待樣品的一面處理結(jié)束后，把樣品取出翻轉(zhuǎn)再進行另一面的等離子處理，但如果樣品是粉末或者微小顆粒，這個方法就有局限性。
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