日本ATAGO(愛宕)折光儀在光刻設(shè)備中的應(yīng)用
日本ATAGO(愛宕)折光儀在光刻設(shè)備中的應(yīng)用 |
光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此光刻機價格昂貴,通常在3,000至5,0000萬美元。 |
1984年,日本人Takanashi在一項美國中定義了浸入式光刻機zui基本的結(jié)構(gòu)特征,即在zui后一級物鏡與光刻膠之間充入一層透明的液體。 浸入式光刻是指在光刻機投影鏡頭與半導(dǎo)體硅片之間用一種液體充滿,從而獲得更好分辯率及增大鏡頭的數(shù)值孔徑,進而實現(xiàn)更小曝光尺寸的一種新型光刻技術(shù)。 將液體置于主鏡頭和硅片之間,入射光線自然而然地就會穿透比空氣折射率更高的液體,這種方式本身并沒有提高特定投影圖像的分辨率,但是它卻能夠賦予光刻機的鏡頭更高的數(shù)值孔徑。 NA=n sinα,其中n是透鏡周圍介質(zhì)的折射系數(shù),α是透鏡的接受角。傳統(tǒng)的“干法”光刻系統(tǒng)中,介質(zhì)是折射系數(shù)為1的空氣,則NA的理論zui大值為1。采用具有更高折射系數(shù)的液體,浸入技術(shù)有可能使系統(tǒng)的NA>1。比如使用折射率為1.44的去離子水后,NA的理論zui大值即為1.44。在193nm曝光系統(tǒng)中,分辨率R=kλ/NA就可以達到k*193/1.44=132mn。如果液體不是水而其它液體,但折射率比1.44高時,則實際分辨率可以非常方便地再次提高,也這是浸入式光刻技術(shù)能很快普及的原因。浸入式光刻的數(shù)值孔徑大小是與使用液體的折射率是直接相關(guān)的。因此,人們正在著眼于尋找除水以外具有更大折射率的液體。 早在2005年SPIE Microlithography的年會上,JSR和DuPont等公司就已經(jīng)公布了它們的高折射率液體的研發(fā)計劃。在選擇高折射率液體時,考慮的重點包括:與光刻膠沒有反應(yīng);光透過率高;折射率高;其它各種特性良好。已研發(fā)出的第二代浸入液的折射率為1.64,該液體氧氣的吸收很少,即便被曝露于空氣中性能也十分穩(wěn)定。并且由于蒸汽壓很低,所以很難發(fā)生熱分解。這個折射率數(shù)值能夠把193nm光刻機的有效波長降低到大約116nm左右。至于第三代浸入液,它的折射率應(yīng)為1.8左右,同時還需要有更高折射率的鏡頭才能達到約1.65的NA值。 浸入液體在未來仍有許多問題亟待解決:什么樣的液體更適合浸入式光刻的需求;液體的供給與回收;液體傳輸中的流速、氣泡、溫度、壓力的控制;液體特性,例如流速、氣泡、溫度、壓力變化對光學(xué)性能(折射率,吸收,散射、雙折射、像差)的影響及其測量與控制;偏振光照明時,液體與抗蝕劑的相互作用;液體折射率與液體兩側(cè)元件折射率匹配;液體與光刻環(huán)境中相關(guān)元件的兼容性等。 對于光刻設(shè)備來說,鏡頭是制約發(fā)展的主要瓶頸之一。通過改善光學(xué)主鏡頭來提高光刻機NA的主要途徑有兩個:一是用彎曲主鏡頭替代平面鏡頭。但彎曲主鏡頭的表面很難控制浸入液體的流動,用于浸入式光刻機有一定難度;二是尋找高折射率的光學(xué)主鏡頭材料。目前193nm ArF浸入式光刻機主鏡頭折射率為1.56,IBM與JSR聯(lián)合推出Nemo系統(tǒng)主鏡頭采用高密度石英材料,其折射率為1.6。 日本ATAGO(愛宕)是折光儀產(chǎn)品的,其*的高折射率阿貝折光儀折射率測量范圍可高達1.87,更有DR-M2及DR-M4/1550型號的多波長折射儀,可測量450-1550nm波長下的折射率,折射率測量范圍可達1.92,是光刻行業(yè)研究的好幫手。日本ATAGO(愛宕)多波長折光儀測試不同波長下的折射率,在光源器件,LED封裝材料(玻璃和塑膠),LCD 液晶體材料,高折射率光學(xué)玻璃,微電子加工產(chǎn)業(yè)等方面應(yīng)用廣泛,對新材料,新光源,性能測試方面也有非常廣泛的應(yīng)用。波長從可見波長到近紅外波長(1550nm),這樣可以評價光源的通透性, 全反射角度,亮度等等。如可用于透鏡生產(chǎn)應(yīng)用中分析玻璃和聚合物的特性表征,測量分散體及色散系數(shù):VD,Vd 和 Ve . |