高真空膜滲透設(shè)備該高真空膜滲透裝置內(nèi)部閥控部件全部采用日本進(jìn)口CKD電磁閥程序控制，該裝置結(jié)構(gòu)布局合理，操作便捷，可實(shí)現(xiàn)膜滲透實(shí)驗(yàn)的穩(wěn)定進(jìn)行。該設(shè)備工作溫度室溫8~60℃，工作壓力為0~1Mpa，真空度可低至3 Pa。設(shè)備通訊模塊皆采用rs485通訊連接，采集數(shù)據(jù)穩(wěn)定，可實(shí)驗(yàn)自動循環(huán)抽真空和手動抽真空等操作。

工作溫度：室溫8~60℃

真空度：3 Pa

使用壓力：0~1Mpa

高真空膜滲透設(shè)備可用于測試0-10mpa壓力范圍內(nèi)的動態(tài)多元材料吸附測試；設(shè)備安裝穩(wěn)定的背壓閥及氣體高壓倉，用于快速穩(wěn)定的實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)壓力穩(wěn)定及氣體流速穩(wěn)定。