產(chǎn)地類別 |
國產(chǎn) |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
環(huán)保,食品,化工,農(nóng)業(yè),綜合 |
紫外臭氧清洗機(jī)是一種干法清洗設(shè)備,可用于清洗多種單晶基片,以成好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。
紫外臭氧清洗機(jī) 型號(hào):DP-UV2
概述
紫外臭氧清洗機(jī)是一種干法清洗設(shè)備,可用于清洗多種單晶基片,以成好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。
紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對(duì)材料無損傷的原子級(jí)別的清洗手段,適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵);所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機(jī)化合物。
參數(shù) 指標(biāo)
材質(zhì) 內(nèi)部采用不銹鋼材料
結(jié)構(gòu) 抽屜式樣品臺(tái),取、放基板簡單、方便
氣路 預(yù)留進(jìn)氣接口,豐富設(shè)備的清洗種類
保護(hù) 抽屜開合與UV燈工作互鎖,避免紫外線傷害
計(jì)時(shí) 按鍵定時(shí)器,數(shù)顯倒計(jì)時(shí),放便直觀
操作 清洗工作進(jìn)程可以任意時(shí)間手動(dòng)終止
可選配件 可選臭氧中和器,避免臭氧傷害
電氣 指標(biāo)
清洗波段 185nm和254nm
距離UV燈3-5mm平均光強(qiáng) 28~32mW/cm2
燈管 雙波低壓汞燈X2
燈管功率 300W
燈管尺寸 300mm×300mm
照射區(qū)域 300mm×300mm(基臺(tái)尺寸305×340mm)
可調(diào)照射距離 5~60mm
定時(shí)器工作范圍 0~99min99s 具有自動(dòng)倒計(jì)時(shí)功能
機(jī)械 指標(biāo)
進(jìn)、出氣口 進(jìn)氣口:φ8mm,出氣口:φ50mm
設(shè)備外型尺寸
長( 430mm)×寬( 380mm)×高( 320mm)
(含臭氧中和器的尺寸為)長580mm×寬380mm×高420mm
重量 26KG