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5靶頭等離子射頻磁控濺射儀 參考價：面議
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比...
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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