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目錄:安東帕(上海)商貿(mào)有限公司>>微波合成儀>>微波反應(yīng)器>> Monowave 400R&Cora 5001微波合成和拉曼光譜聯(lián)用

微波合成和拉曼光譜聯(lián)用
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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  • 品牌 Anton Paar/安東帕
  • 型號 Monowave 400R&Cora 5001
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海
屬性

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更新時間:2024-01-02 15:15:29瀏覽次數(shù):508評價

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應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子,綜合
微波合成和拉曼光譜聯(lián)用:將 Monowave 400 R 與 Cora 5001 拉曼光譜儀結(jié)合使用,可以從以前的黑匣子中接收光譜信息。安東帕結(jié)合了兩種強(qiáng)大的合成化學(xué)技術(shù) – 微波反應(yīng)器 Monowave 400 R 提供了高速化學(xué)反應(yīng),而拉曼分析儀 Cora 5001 則通過分子光譜對其進(jìn)行表征。

微波合成和拉曼光譜聯(lián)用將 Monowave 400 R 與 Cora 5001 拉曼光譜儀結(jié)合使用,可以從以前的黑匣子中接收光譜信息。安東帕結(jié)合了兩種強(qiáng)大的合成化學(xué)技術(shù) – 微波反應(yīng)器 Monowave 400 R 提供了高速化學(xué)反應(yīng),而拉曼分析儀 Cora 5001 則通過分子光譜對其進(jìn)行表征。

微波合成和拉曼光譜聯(lián)用通過將精確的溫度曲線與有關(guān)反應(yīng)混合物化學(xué)組成的實(shí)時信息結(jié)合起來,可以更好地了解反應(yīng)機(jī)理和動力學(xué)?;诟羁痰囊娊鈦韮?yōu)化反應(yīng)條件,例如參數(shù)的影響,不同試劑的作用或理想反應(yīng)終點(diǎn)的檢測。


高溫高壓的反應(yīng)條件下研究化學(xué)反應(yīng)

Monowave 400 R 提供了高達(dá) 300°C 的溫度和高達(dá) 30 bar 壓力的全部操作參數(shù)。Cora 5001 拉曼分析儀可在反應(yīng)過程中直接在反應(yīng)瓶內(nèi)進(jìn)行時間序列測量,時間間隔和曝光時間可調(diào)。微波反應(yīng)器與拉曼光譜儀通過特殊的光纖拉曼探針連接。


實(shí)時原位反應(yīng)監(jiān)測,可更深入地了解反應(yīng)機(jī)理

拉曼光譜法可直接鑒定官能團(tuán),并提供反應(yīng)混合物組成的定量信息。通過時間分辨測量來檢測不可分離的中間體或短壽命過渡態(tài),更深入地了解反應(yīng)機(jī)理。

應(yīng)用包括:

 - 鑒定活性中間體

 - 闡明反應(yīng)機(jī)理

 - 研究反應(yīng)動力學(xué)

 - 監(jiān)測副產(chǎn)物形成

 - 優(yōu)化反應(yīng)條件


就像每次使用非接觸式測量的新探頭一樣

拉曼探針采用散射法,因此可以透過硼硅酸鹽玻璃小瓶壁進(jìn)行操作,直接監(jiān)測加壓反應(yīng)的化學(xué)成分。您可以研究從 2 mL 到 20 mL 的各種刻度,因?yàn)榭梢葬槍?Monowave 400 R 可用的兩種尺寸的反應(yīng)容器最佳地定位激光束的焦點(diǎn)。有了非接觸式測量,就不會出現(xiàn)交叉污染,您可以自由選擇反應(yīng)物,且實(shí)驗(yàn)之間無需清潔。


確的溫度控制,確保反應(yīng)過程具有更佳的可重復(fù)性

使用微波進(jìn)行加熱有許多優(yōu)點(diǎn):它們可以直接加熱反應(yīng)瓶中的反應(yīng)混合物,而無需加熱周圍環(huán)境。與傳統(tǒng)加熱源不同,可以即刻打開和關(guān)閉微波加熱,從而更好控制加熱。Monowave 400 R 利用這些優(yōu)勢,以更好的速度為任何溶劑提供任何規(guī)模的高效加熱。儀器的軟件控制器不僅可以防止溫度過沖,而且還可以通過與所需的溫度程序更好匹配來促進(jìn)更清潔的轉(zhuǎn)換。這樣可以加快化學(xué)反應(yīng)的速度,并使反應(yīng)溫度遠(yuǎn)高于所用溶劑的沸點(diǎn)。


操作安全可靠

Monowave 400 R 配備有多個聯(lián)鎖系統(tǒng),因此用戶可以免受微波和激光輻射的傷害。只有關(guān)閉 Monowave 400 R 的旋轉(zhuǎn)蓋,才能激活兩個設(shè)備。 組合設(shè)置滿足激光 1 級可達(dá)到的曝光極限 (AEL)。



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