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這款反射式光譜橢偏儀MSP具有250-1000nm的波長(zhǎng)范圍，可與顯微分光光度計(jì)聯(lián)合使用，測(cè)量極小斑點(diǎn)的薄膜厚度和折射率，可廣泛用于MEMS，半導(dǎo)體晶圓等領(lǐng)域,是反射光譜橢偏儀品牌中光譜橢偏儀價(jià)格較低的橢偏儀。
spectroscopic ellipsometer,從深紫外到可見光再到近紅外.深紫外波長(zhǎng)非常適合測(cè)量超薄薄膜，比如納米厚度薄膜厚度，比如硅晶圓的薄膜厚度，典型值在2nm左右。對(duì)于測(cè)量許多材料的帶隙，深紫外光譜橢偏儀也非常重要。
橢圓偏振技術(shù)是通過研究光束在樣本表面反射后偏振態(tài)變化而獲得表面薄膜厚度等信息的薄膜測(cè)量技術(shù)。
與反射計(jì)或反射光譜技術(shù)不同的是，光譜橢偏儀參數(shù)Psi 和Del并非在常見入射角下獲得。通過改變?nèi)肷浣谴笮?，可獲得許多組數(shù)據(jù)，這樣就非常有助于優(yōu)化橢偏儀測(cè)量薄膜或樣本表面的能力，因此變角橢偏儀功能遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于固定角橢偏儀。
改變橢偏儀入射角的方法有兩種，一種是手動(dòng)調(diào)節(jié)，一種是自動(dòng)調(diào)節(jié)入射角，我們可提供兩種模式的橢偏儀。
反射式光譜橢偏儀MSP特色
易于安裝，拆卸和維護(hù)
良好的光學(xué)設(shè)計(jì)
自動(dòng)改變?nèi)肷浣?，入射角分辨率高達(dá)0.01度
高功率250-1100nm光源適合多種應(yīng)用
采用陣列探測(cè)器確保高速測(cè)量
測(cè)量薄膜膜堆的薄膜厚度和折射率
可用于實(shí)或在線監(jiān)測(cè)薄膜厚度和折射率
具有齊全的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫
提供工程師模式，服務(wù)模式和用戶模式三種使用模式
靈活的工程師模式用于各種安裝設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)量
一鍵快速測(cè)量
全自動(dòng)標(biāo)定和初始化
精密樣品準(zhǔn)直界面直接樣品準(zhǔn)直，不需要額外光學(xué)
精密高度和傾斜調(diào)整
適合不同材料和不同后的樣品襯底基片
2D和3D數(shù)據(jù)顯示輸出



反射式光譜橢偏儀MSP參數(shù)
波長(zhǎng)范圍：250-1000nm， 與顯微分光光度計(jì)聯(lián)合使用時(shí)400-850nm
波長(zhǎng)分辨率：~1nm
測(cè)量點(diǎn)大?。?-5mm可調(diào)
入射角：10-90度可調(diào)
入射角分辨率：0.01度
數(shù)字成像：130萬像素
有效放大倍數(shù)：1200X
物鏡工作距離：12mm
顯微分光光度計(jì)光束大?。?10-500微米可調(diào)
可測(cè)樣品大?。焊哌_(dá)300mm 直徑
可測(cè)樣品厚度：高達(dá)20mm
測(cè)量薄膜厚度：0nm ---10um
測(cè)量時(shí)間：~1s/點(diǎn)
精度：~0.25%
重復(fù)精度：<1A
反射式光譜橢偏儀可選配件
反射或透射光度測(cè)量配件
微點(diǎn)測(cè)量小面積
X-Y位移臺(tái)用于厚度繪圖
加熱臺(tái)/制冷臺(tái)用于薄膜動(dòng)力學(xué)研究
垂直樣品安裝測(cè)角計(jì)
波長(zhǎng)拓寬到IR范圍
掃描單色儀配置