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2023
05-25EVG納米壓印技術(shù)用于制作3D光學(xué)納米結(jié)構(gòu)
首CHUANG的解決方案將SwissLithoNanoFrazo系統(tǒng)的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術(shù)的高產(chǎn)量和成本效益相結(jié)合面向MEMS、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合...2023
05-25NIL納米壓印技術(shù)在生物醫(yī)療領(lǐng)域的應(yīng)用
在過去的幾十年中，生物技術(shù)器件的小型化極大地改善了臨床診斷，藥物研究和分析化學(xué)。現(xiàn)代生物技術(shù)器件——如用于診斷、細(xì)胞分析和藥物發(fā)現(xiàn)的生物醫(yī)學(xué)MEMS(bioMEMS)——通常是基于芯片的，依賴于微米級...2023
05-082023
04-13晶圓鍵合技術(shù)在LED應(yīng)用中的研究進(jìn)展（二）
1.2金屬鍵合對于高亮度垂直LED（high-brightnessverticalLED，HB-VLED）來說，鍵合界面必須具有高熱導(dǎo)和高電導(dǎo)的性能，幸運(yùn)的是大部分金屬材料導(dǎo)熱性能好的同時導(dǎo)電性能也較...2023
04-13晶圓鍵合技術(shù)在LED應(yīng)用中的研究進(jìn)展（一）
0引言發(fā)光二極管（light-emittingdiode，LED）照明是利用半導(dǎo)體的電致發(fā)光發(fā)展而來的固態(tài)照明技術(shù)。自1907年第一只發(fā)光二極管問世，到20世紀(jì)90年代，人們對LED的研究進(jìn)展緩慢，期...2023
04-13用于創(chuàng)新PIC封裝的晶圓級納米壓印技術(shù)
01引言數(shù)據(jù)中心、電信網(wǎng)絡(luò)、傳感器和用于人工智能高級計算中的新興應(yīng)用，對于低功耗和低延遲的高速數(shù)據(jù)傳輸?shù)男枨蟪尸F(xiàn)出指數(shù)級增長。我們比以往任何時候都更加依賴這些應(yīng)用來確保這個世界更安全、更高效。在所有這...2023
04-12EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)
相較上一代平臺，全新自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)（IQAlignerNT）產(chǎn)出率和對準(zhǔn)精度提升兩倍，為EVG光刻解決方案帶來了全新應(yīng)用微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場晶圓鍵合和光刻設(shè)備LINGXIA...2023
04-12光刻創(chuàng)新技術(shù)：EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術(shù)
1.介紹對電子設(shè)備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎(chǔ)架構(gòu)從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)橛糜诟呒壏庋b和異構(gòu)集成的數(shù)字光刻技術(shù)。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉(zhuǎn)向封裝，小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此，對...2023
04-122023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（結(jié)果與討論）
３結(jié)果與討論３.１顯影時間影響經(jīng)過無掩模光刻機(jī)曝光后，目標(biāo)圖案已轉(zhuǎn)移至ＩＴＯ玻璃上。將ＩＴＯ玻璃放置于加熱板上進(jìn)行加熱，烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分，使光刻膠與ＩＴＯ玻璃結(jié)合更加緊密，此時，經(jīng)過曝光的...2023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究（引言+實(shí)驗(yàn)）
１引言ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍｔｉｎｏｘｉｄｅ）又稱氧化銦錫，是一種銦錫金屬氧化物，因其具有光學(xué)透明性［１］、高導(dǎo)電性［２］、易加工性［３］及柔性潛力［４］等優(yōu)點(diǎn)，目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領(lǐng)域...2023
04-102023
03-142023
03-08可以讓產(chǎn)品變性的機(jī)器，等離子清洗機(jī)？
等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是：（1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了...2023
02-20EVG突破用于半導(dǎo)體高/級封裝的掩模對準(zhǔn)光刻技術(shù)中的速度和精度障礙
面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合和光刻設(shè)備的LINGXIAN供應(yīng)商EVGroup（EVG）近日推出了IQAlignerNT，它是針對大批量先進(jìn)封裝應(yīng)用的新的，先進(jìn)的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。新型I...2023
02-202023
02-20【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準(zhǔn)和測試精度
在微電子、納米、半導(dǎo)體領(lǐng)域?yàn)榫雍虾凸饪碳夹g(shù)提供設(shè)備技術(shù)方案的供應(yīng)商EVG近期推出了NT系列光刻機(jī)和對準(zhǔn)測試機(jī)，這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗(yàn)證過的新型光刻曝光機(jī)以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...2023
02-202023
06-08光學(xué)光刻技術(shù)（Optical lithography）
1.簡介光學(xué)光刻（Opticallithography），也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備（接近式光刻機(jī)）2.1...2023
02-16請輸入賬號
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