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SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋.PX 2996
勻膠機(jī)PX 1216
ABN-MLM-001無(wú)掩膜光刻機(jī)PX 3846
IQ Aligner NTDymek岱美中國(guó)儀器自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)PX 7337
TD-A280D優(yōu)質(zhì)勻膠機(jī) 旋涂?jī)x 烘膠臺(tái) 烤膠機(jī)PX 2182
臺(tái)式光刻機(jī)PX 5032
AC300-S-CTM自動(dòng)勻膠顯影機(jī)PX 1350
PLUTO-MH等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)PX 2250
德國(guó)海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫(xiě)光刻機(jī)PX 3120
GH/KW-4A北京勻膠機(jī)PX 2990
HAD-ZD2數(shù)顯旋渦式振篩機(jī)PX 4542
L20001英國(guó)Ossila-Spin CoaterPX 4143
無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)PX 1560
520HE 納米壓印透鏡三維壓印機(jī)PX 2955
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 2326
MHY-29071自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)PX 2952
AS-11SUGIYAMA杉山電機(jī)振動(dòng)傳感器PX 1635
PR-3離子去膠機(jī)PX 2786
C-43型 9英寸國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 4866
PALET DDB-701無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)PX 3404
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 1954
Nikon S207D掃描式光刻機(jī)PX 1800
勻膠機(jī)、旋涂?jī)x(德國(guó)產(chǎn)、高性能)PX 2729
FPUPN-NANOONE微納米3D打印機(jī),多光子光刻PX 4068
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 4204
納米壓印技術(shù)咨詢PX 1946
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 2822
超大型勻膠機(jī)PX 3010
JW-A66寸程控觸屏臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂?jī)xPX 3642
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 3297
MHY-26174勻膠機(jī)PX 2643
納米壓印系統(tǒng)PX 3100
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)PX 1845
GK100桌面微型紫外光刻機(jī)PX 3030
L-858DSEKONIC/日本世光原裝全新攝影曝光機(jī)PX 3529
HC120SE可編程勻膠機(jī)(旋涂?jī)x)PX 2280
德國(guó)SPS(POLOS)勻膠機(jī)儀器POLOS SPIN4000APX 3884
型號(hào):ZRX-16298土壤溫度記錄儀PX 3979
KWD臺(tái)式勻膠機(jī)PX 2450
HAD-17939喹啉不溶物測(cè)定儀PX 3676
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
勻膠機(jī)
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
勻膠機(jī)旋涂?jī)x
自動(dòng)勻膠顯影機(jī)
伺服勻膠機(jī)
臺(tái)式勻膠機(jī)
德國(guó)海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫(xiě)光刻機(jī)
等離子清洗機(jī)/表面處理系統(tǒng)
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營(yíng)許可證
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