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DZS500 高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

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電子束蒸發(fā)鍍膜沈陽科儀

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

主要由蒸發(fā)真空室、e 型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機(jī)臺及電控系統(tǒng)等部分組成,具備自動控制軟件系統(tǒng)。

2. 設(shè)備用途/原理

沈陽科儀 DZS500 系統(tǒng)用途廣泛。電子束蒸發(fā)可以蒸發(fā)高熔點材料,比一般電阻加熱蒸發(fā)熱效率高、束流密度大、蒸發(fā)速度快,制成的薄膜純度高、質(zhì)量好,厚度可以較準(zhǔn)確地控制,可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。在科研領(lǐng)域,它常用于材料研究和新型器件的開發(fā);在工業(yè)生產(chǎn)中,可用于大規(guī)模制造高質(zhì)量的薄膜產(chǎn)品。例如,在制造液晶顯示器的導(dǎo)電薄膜時,能夠保證薄膜的導(dǎo)電性和均勻性,提高產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

3. 特色參數(shù)

真空室結(jié)構(gòu):采用 U 形前開門。

真空室尺寸500x500x600mm。

極限真空度≤6.67e-5Pa。

沉積源4 個 11cc 坩堝。

樣品尺寸與溫度:可放置 φ4 英寸的 1 片樣品,最高溫度可達(dá) 800℃。

占地面積:約 2.7 米 x1.7 米 x2.1 米。

電控描述:全自動。

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性≤±3%。

特色參數(shù):樣品可自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速可調(diào)。

4. 設(shè)備特點

沈陽科儀 DZS500 系統(tǒng)的真空室具有一些顯著特點。其極限真空度表現(xiàn)出色,通常能夠達(dá)到≤6.67×10?? Pa(經(jīng)烘烤除氣后)。停泵關(guān)機(jī) 12 小時后,蒸發(fā)室真空度≤5Pa,這表明其真空保持能力較強(qiáng)。真空室的結(jié)構(gòu)通常為 U 形前開門,尺寸一般為 500×500×600mm。這種設(shè)計不僅方便操作,還有利于維持真空環(huán)境的穩(wěn)定性。在實際應(yīng)用中,良好的真空室特點能夠為薄膜沉積提供高質(zhì)量的真空條件,減少雜質(zhì)和氣體對薄膜質(zhì)量的影響。比如在制備高精度光學(xué)薄膜時,穩(wěn)定的真空環(huán)境能夠確保薄膜的均勻性和純度。




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