1.產(chǎn)品概述：

該設備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。

2.產(chǎn)品應用：

在實際應用中，這種系統(tǒng)常用于半導體、光電子、有機電子等域，用于制備各種有機薄膜、金屬薄膜或復合薄膜，以滿足不同器件和材料的研究與開發(fā)需求。

3.真空室:

沈陽科學儀器的高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) DZ350的詳細介紹可能因具體型號和配置而有所不同

真空室結構:U形開門

真空室尺寸:φ350×400mm

限真空度:≤6.6E-5Pa

沉積源:2個鎢舟、2個有機源

樣品尺寸，溫度:50mmx50mm，1片，高300℃

占地面積（長x寬x高）:約2.5米×1.2米×1.8米

電控描述:采用先進的控制系統(tǒng)，方便用戶設置和調整工藝參數(shù)，如蒸發(fā)溫度、沉積時間等。

手動：樣品臺：擁有可旋轉或可移動的樣品臺，以便均勻沉積薄膜。

工藝:不含工藝