線列式 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 沈陽科儀
- 型號 線列式
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/5 11:19:19
- 訪問次數(shù) 157
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1.產(chǎn)品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途:
用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。例如可用于制備各種功能性薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;適用于微電子域;在光學(xué)域,可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等;在機械加工行業(yè)中,可沉積表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等,以提高表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能;還可應(yīng)用于高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜等的研究。
3.真空室:
真空室結(jié)構(gòu):長方形側(cè)開門
真空室結(jié)構(gòu):長方形側(cè)開門
真空室尺寸:1100X700X350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:磁控靶尺寸:450X80mm、向上濺射,每個真空室配2個靶位
樣品尺寸,溫度:300X400mm;高溫度300度
占地面積(長x寬x高):約6米×3米×2米(設(shè)計待定)
電控描述:全自動工藝:設(shè)計待定