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SENTECH SILAYO PEARD系統(tǒng)

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原子層沉積ALD

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務(wù)。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

價格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,電氣

主要功能與優(yōu)勢

PEALD 實現(xiàn)最佳薄膜均勻性 < 1 %

SENTECH SILAYO 等離子體增強(qiáng)原子層沉積 (PEALD) 系統(tǒng)設(shè)計用于在大型 3D 物體和小基材批次上進(jìn)行保形和均勻光學(xué)鍍膜。SENTECH專有的平面三重螺旋天線(PTSA)為均勻的光學(xué)鍍膜提供均勻的等離子體。

直徑達(dá) 330 mm、高度達(dá) 100 mm 的樣品

SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)能夠均勻包被直徑達(dá)330 mm、垂直尺寸達(dá)100 mm的樣品。

使用射頻偏置進(jìn)行應(yīng)力控制

可選的射頻偏置襯底電極允許修改層屬性(例如應(yīng)力和折射率)

SENTECH SILAYO PEALD 系統(tǒng)擴(kuò)展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合,可在 330 mm 基板和 3D 基板上進(jìn)行沉積。為了確保層厚具有出色的均勻性和保形性,PEALD用于沉積光學(xué)薄膜,例如,作為抗反射涂層或光學(xué)濾光片系統(tǒng)。SENTECH SILAYO在PEALD處理中利用了SENTECH平面三重螺旋天線(PTSA)電感耦合等離子體(ICP)源的優(yōu)點。

靈活性和模塊化

SENTECH SILAYO PEALD系統(tǒng)設(shè)計用于在大型和3D形狀的基材上沉積材料,特別適用于對層性能要求高的光學(xué)鍍膜,例如厚度和成分控制的高精度,光滑的表面和尖銳的界面,應(yīng)力控制,特別是高厚度的多層堆疊,3D形狀上的高均勻性和保形性,以及降低沉積溫度以實現(xiàn)低損傷加工。

該系統(tǒng)可以選擇配備SENTECH AL實時監(jiān)測儀的專有技術(shù),用于原位監(jiān)測。

SENTECH SILAYO由先進(jìn)的硬件和SENTECH SIA軟件控制,具有客戶端-服務(wù)器架構(gòu)。一個經(jīng)過充分驗證的、可靠的可編程邏輯控制器(PLC)用于所有組件的實時控制。






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