RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 SAMCO
- 型號(hào) RIE-200C
- 產(chǎn)地 日本
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/6 15:14:14
- 訪問次數(shù) 205
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1. 產(chǎn)品概述
RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進(jìn)行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機(jī)械手,PLC控制全自動(dòng)操作,高性能存儲(chǔ)工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。
2. 設(shè)備用途/原理
Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵,清除有機(jī)污染物。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
大氣高速傳輸系統(tǒng),該系統(tǒng)配備了一個(gè)大氣盒室和一個(gè)大氣傳輸機(jī)器人,而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動(dòng)加工,并且可以安裝在兩個(gè)盒式箱中。全自動(dòng)操作,通過觸摸屏可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操作,通過PLC控制可實(shí)現(xiàn)過程管理和數(shù)據(jù)記錄。