化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)>Nikon S204B 掃描式光刻機(jī)
Nikon S204B 掃描式光刻機(jī)
- 公司名稱(chēng) 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Nikon/日本尼康
- 型號(hào) Nikon S204B
- 產(chǎn)地
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/9/4 14:52:39
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 606
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一、產(chǎn)品概述：
Nikon S204B 掃描式光刻機(jī)是一款高效的半導(dǎo)體制造設(shè)備，專(zhuān)為 200mm 晶圓的生產(chǎn)設(shè)計(jì)。該機(jī)型采用先進(jìn)的掃描光刻技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路、微處理器和存儲(chǔ)器等電子元件的制造。憑借其快速曝光速度和良好的穩(wěn)定性，S204B 非常適合大批量生產(chǎn)。同時(shí)，其用戶(hù)友好的操作界面和自動(dòng)化功能降低了操作難度，提升了生產(chǎn)效率，使得 Nikon S204B 成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要工具，滿(mǎn)足行業(yè)對(duì)高質(zhì)量和高效率的需求。
二、設(shè)備用途/原理：
該設(shè)備通過(guò)高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光線(xiàn)，經(jīng)過(guò)高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，精確地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上。曝光后，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進(jìn)行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。接著，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。通過(guò)這一系列步驟，Nikon S204B 能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移，滿(mǎn)足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。
三、主要技術(shù)指標(biāo)：
分辨率 | 0.18µm |
N.A. | 0.68 |
曝光光源 | 248nm |
倍率 | 4:1 |
大曝光現(xiàn)場(chǎng) | 25mm*33mm |
對(duì)準(zhǔn)精度 | LSA：40nm FIA：45nm |
四、設(shè)備特點(diǎn)
Nikon S204B掃描式光刻機(jī)
光源波長(zhǎng)248nm
分辨率優(yōu)于0.18µm
主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線(xiàn)
廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LED等
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