EVG^®620 NT

Smart NIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®620NT   SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)

具有UV納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)，采用EVG專有的SmartNIL®技術，大可達100 mm

技術數據

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而著稱，以小的占位面積提供了新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，短的掩模和模具更換時間以及有效的服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對齊和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

SmartNIL是行業(yè)的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。 SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。 EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印技術的長期前景，納米壓印技術是一種用于大規(guī)模生產微米級和納米級結構的低成本，高產量的替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板

特征

頂側和底側對齊能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和配方控制的曝光間隙

支持新的UV-LED技術

小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉換重組

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：鍵對齊、紅外對準、SmartNIL 、µ接觸印刷

技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：大150毫米的碎片

SmartNIL®：長達100毫米

解析度≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準

軟NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL®：≤±3 µm

自動分離

柔紫外線NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔軟的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持