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SEMILAB-SE2000 SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 SEMILAB-SE2000
  • 產(chǎn)地 匈牙利
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/9/25 13:26:13
  • 訪問次數(shù) 1569

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領域的設備集成和技術(shù)服務;目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領域經(jīng)驗豐富的專業(yè)技術(shù)團隊,專業(yè)服務于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設備,還能根據(jù)客戶的實際生產(chǎn)需求制訂可行的工藝技術(shù)方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進的設備和專業(yè)的技術(shù)服務打下了堅實基礎。

 

半導體設備,微組裝設備,LTCC設備,化工檢測設備

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,電子

SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺
(Spectroscopic Ellipsometer Metrology Station)

產(chǎn)品描述

SE2000全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術(shù),采用良好的旋轉(zhuǎn)補償器,結(jié)合光纖專li技術(shù)將偏振光信號傳輸至分段光譜優(yōu)化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜儀,測得線偏振光經(jīng)過樣品反射后的偏振態(tài)變化情況,并通過樣品光學模型的建立,計算出單層或多層薄膜結(jié)構(gòu)的厚度、折射率和消光系數(shù),實現(xiàn)精確、快速、穩(wěn)定的寬光譜橢偏測試。

SE2000全光譜橢偏測試平臺是Semilab針對產(chǎn)線和實驗線推出的多功能高速測試平臺。模塊化的設計,可選配300mm樣品臺或350*450mm平板樣品臺,Robot上片系統(tǒng),圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng),實現(xiàn)高速在線監(jiān)控。在測試功能方面,可自由組合多種從190nm深紫外光譜至2400nm近紅外光譜的探測器,并可拓展FTIR紅外光譜測試模組、渦電流法非接觸式或4PP接觸式方塊電阻測試模組、Mueller Matrix各項異性材料測試模組、Raman結(jié)晶率測試模組、電子遷移率表征模組、LBIC光誘導電流測試模組、反射干涉測試模組等多種功能,使SE2000成為光學和電學特性表征綜合測試系統(tǒng)。

產(chǎn)品特點

業(yè)界第yi家光譜型橢偏儀測試設備廠商

業(yè)界標準測試機構(gòu)定標設備,參與發(fā)布中華人民共和國橢圓偏振測試技術(shù)標準

業(yè)界寬測試光譜范圍,選配190nm-25um,并可自動切換快速探測模式和高精度探測模式

配置實時對焦傳感器,實現(xiàn)高速測量

選配Robot上片系統(tǒng),圖形識別系統(tǒng)和數(shù)據(jù)通信系統(tǒng),實現(xiàn)在線監(jiān)控

*的樣品臺結(jié)構(gòu)設計,優(yōu)化固定大尺寸的柔性材料

模塊化設計,可綜合監(jiān)控樣品光學和電學特性

定期免費升級SOPRA材料數(shù)據(jù)庫

開放光學模型擬合分析過程,方便用戶優(yōu)化測試菜單

主要應用

光伏行業(yè):薄膜電池透明導電膜、非晶硅微晶硅薄膜電池、CIGS薄膜電池、CdTe薄膜電池、有機電池、染劑敏感太陽能電池

半導體行業(yè):High-K、Low-K、金屬、光刻工藝、半導體鍍膜工藝、外延工藝

平板顯示行業(yè):TFT、OLED、LTPS、IGZO、彩色濾光片

光電行業(yè):光波導、減反膜、III-V族器件、MEMS、溶膠凝膠

主要技術(shù)指標:SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺

測試速度:<1 sec (快速測試模式)
               <120 sec (高分辨率測試模式)

測量光譜分辨率:<0.5nm@633nm (高分辨率測試模式)
                        <0.8nm@633nm

 

 

 

 

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