原子力顯微鏡在薄膜行業(yè)中的應(yīng)用有哪些?
上海爾迪儀器科技有限公司為您解答!
原子力顯微鏡是一種可用來(lái)研究包括絕緣體在內(nèi)的固體材料表面結(jié)構(gòu)的分析儀器。它通過(guò)檢測(cè)待測(cè)樣品表面和一個(gè)微型力敏感元件之間的極微弱的原子間相互作用力來(lái)研究物質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)及性質(zhì)。
Bruker原子力顯微鏡是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器。
在薄膜技術(shù)中的應(yīng)用隨著膜技術(shù)的蓬勃發(fā)展,人們力圖通過(guò)控制膜的表面形態(tài)結(jié)構(gòu),改進(jìn)制膜的方法,進(jìn)而提高膜的性能。
在過(guò)去的多年的研究中,關(guān)于膜的制備、形態(tài)與性能之間的關(guān)系已經(jīng)做了多方面的嘗試和研究,而且這些嘗試和研究對(duì)于膜的形成與透過(guò)機(jī)理都十分有價(jià)值,然而由于過(guò)程相當(dāng)復(fù)雜,對(duì)其中的理解仍然是不夠充分的。
1988 年,當(dāng)原子力顯微鏡發(fā)明以后,為膜表面形態(tài)的研究開(kāi)啟了一扇新的大門。
原子力顯微鏡在膜技術(shù)中的應(yīng)用相當(dāng)廣泛,它可以在大氣環(huán)境下和水溶液環(huán)境中研究膜的表面形態(tài),測(cè)定其孔徑及孔徑分布,還可在電解質(zhì)溶液中測(cè)定膜表面的電荷性質(zhì),定量測(cè)定膜表面與膠體顆粒之間的相互作用力。
無(wú)論在對(duì)哪個(gè)參數(shù)的測(cè)定中, 原子力顯微鏡都顯示了其他方法所沒(méi)有的優(yōu)點(diǎn),因此,其應(yīng)用范圍迅速增長(zhǎng),已經(jīng)迅速變成膜科學(xué)技術(shù)中發(fā)展和研究的基本手段。
用于膜表面形態(tài)和結(jié)構(gòu)特征研究的手段方法和很多,如掃描電子顯微鏡、壓汞法、泡點(diǎn)法、氣體吸附-脫附法、熱孔法以及溶質(zhì)透過(guò)特性等等。其中只有掃描電子顯微鏡能夠提供直接而又詳細(xì)的資料,如孔形狀和孔徑分布。
它在一段時(shí)期曾是微電子學(xué)的標(biāo)準(zhǔn)研究工具,它可以分辨出小至幾個(gè)毫微米的細(xì)節(jié)。但是這種顯微鏡要求試樣表面涂覆金屬并在真空中成像,三維分辨能力差,發(fā)射的高能電子可能會(huì)損壞試樣表面而造成測(cè)量偏差。
原子力顯微鏡通過(guò)探針在試樣表面來(lái)回掃描,生成可達(dá)到原子分辨率水平的圖象,并不苛刻的操作條件(它可以在大氣和液體環(huán)境中操作),以及試樣不需進(jìn)行任何預(yù)處理的特點(diǎn),其在膜技術(shù)中的應(yīng)用引起了廣泛的興趣。
原子力顯微鏡在膜技術(shù)中的應(yīng)用與研究主要包括以下幾個(gè)方面:
膜表面結(jié)構(gòu)的觀察與測(cè)定,包括孔結(jié)構(gòu)、孔尺寸、孔徑分布;
膜表面形態(tài)的觀察,確定其表面粗糙度;
膜表面污染時(shí)的變化,以及污染顆粒與膜表面之間的相互作用力,確定其污染程度
膜制備過(guò)程中相分離機(jī)理與不同形態(tài)膜表面的之間的關(guān)系。
----
購(gòu)買布魯克原子力顯微鏡或者bruker的其他產(chǎn)品,可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。