在鈦酸鋇生產(chǎn)過(guò)程中，非常重要指標(biāo)：鋇鈦摩爾比，簡(jiǎn)稱(chēng)鋇鈦比。鋇鈦比直接影響鈦酸鋇的四方度，進(jìn)而影響鈦酸鋇的介電常數(shù)和絕緣電阻。對(duì)于高質(zhì)量的鈦酸鋇粉體，鋇鈦比的控制精度要求較高，一般控制精度要求小于0.001。通常是用化學(xué)滴定法檢測(cè)出BaTiO₃中BaO和TiO₂的含量，就可計(jì)算Ba/Ti的摩爾比。但化學(xué)滴定法的精確程度只有0.002左右，且操作人員和環(huán)境對(duì)誤差的影響大，不能滿(mǎn)足鈦酸鋇中Ba/Ti摩爾比的要求。也可借助儀器設(shè)備(如ICP-OES)精確測(cè)量Ba和Ti的元素含量，再計(jì)算Ba/Ti摩爾比。ICP測(cè)微量元素準(zhǔn)確的測(cè)試設(shè)備，但需把樣品制備成液體，前處理需稀釋幾百上千倍，這過(guò)程易操帶來(lái)作誤差，且費(fèi)時(shí)費(fèi)力，不能滿(mǎn)足用戶(hù)時(shí)效性。

X射線(xiàn)熒光光譜分析技術(shù)擁有高精密度、高準(zhǔn)確性、制樣簡(jiǎn)單、可一次性報(bào)出所需目標(biāo)元素的結(jié)果，是解決以上難題的最jia選擇，被越來(lái)越多的MLCC企業(yè)所采用。該方法的理論檢測(cè)精度達(dá)到0.0001-0.0003，wan全滿(mǎn)足鈦酸鋇檢測(cè)的要求。

日本電子材料工業(yè)協(xié)會(huì)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格（EMAS）對(duì)鈦酸鋇的Ba/Ti摩爾比標(biāo)準(zhǔn)如下：

EMAS-4202

采用玻璃熔片法進(jìn)行鈦酸鋇的Ba/Ti摩爾比的熒光X射線(xiàn)分析法

EMAS-4203

采用壓片法進(jìn)行鈦酸鋇的Ba/Ti摩爾比的熒光X射線(xiàn)分析法

在EMAS行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制定中，共有15家鈦酸鋇生產(chǎn)廠家參與制定。其中，13家使用的是理學(xué)的設(shè)備對(duì)鈦酸鋇中Ba/Ti摩爾比檢測(cè)，其檢測(cè)精度都在千分之一以下，能滿(mǎn)足企業(yè)對(duì)高質(zhì)量的鈦酸鋇粉體中Ba/Ti摩爾比控制要求。

理學(xué)公司的X射線(xiàn)熒光光譜儀掃描道ZSX Primus III+對(duì)鈦酸鋇粉末質(zhì)量管理，其鈦鋇比標(biāo)準(zhǔn)偏差（摩爾比）～10^-4。根據(jù)實(shí)測(cè)結(jié)果，ZSX Primus III+的精度在0.0002~0.0003。