雖然一致的照明條件是確保輻射精度的最佳條件,但有時在次優(yōu)照明條件下需要收集數(shù)據(jù)。在本文中,我們將先定義什么是理想和不利的照明條件,然后詳細(xì)介紹如何使用 DLS 和校準(zhǔn)反射板 (CRP)來減輕不良照明條件的影響。
數(shù)據(jù)采集的最佳照明條件
多光譜數(shù)據(jù)捕獲的理想條件是晴朗的晴天或云層覆蓋均勻的陰天。在這兩種情況下,照明都是一致的。
左圖:晴朗的晴天。右:淺陰天
難處理的照明條件是部分多云的日子,從陰影到太陽的過渡非常明顯。這些類型的條件很可能會在多光譜數(shù)據(jù)中產(chǎn)生異常。這些異常對從數(shù)據(jù)集生成的復(fù)合材料和植被指數(shù)產(chǎn)生負(fù)面影響,使數(shù)據(jù)在許多情況下都不是最佳的。
陰天,與陽光和陰影形成鮮明對比
當(dāng)沒有理想的照明條件時
在輻射校準(zhǔn)方面,MicaSense 系列傳感器的一個價值點是它們提供了多種光照條件下的適應(yīng)性選項。每個相機(jī)套件中包含兩個校準(zhǔn)工具:校準(zhǔn)反射面板 (CRP) 和 DLS。
上圖:影響數(shù)據(jù)的云影示例
在每次飛行前后拍攝 CRP 的圖像以捕獲基線反射率值,而 DLS 在飛行期間連續(xù)收集數(shù)據(jù)以捕獲光強(qiáng)度的變化。具體來說,DLS 通過位于不同平面上的 10 個不同的光傳感器捕捉下行光,以更好地確定太陽的位置和光線對所收集圖像的影響。DLS 從 10 個傳感器收集這些信息,然后將適當(dāng)?shù)闹祽?yīng)用于 MicaSense 系列傳感器在整個任務(wù)期間收集的每張圖像的元數(shù)據(jù)。與市場上僅在一個平面上使用一個光傳感器的其他光傳感器相比,這使 DLS 具有優(yōu)勢。
MicaSense 系列校準(zhǔn)反射板 (CRP)和陽光傳感器(DLS)
例如,在Pix4D Mappe中進(jìn)行處理時,您可以自由決定是否使用 CRP、DLS 或兩者進(jìn)行校準(zhǔn)。
是否使用 CRP 和 DLS 數(shù)據(jù)的一個很好的起點是考慮收集數(shù)據(jù)的照明條件。在內(nèi)部處理數(shù)據(jù)時,我們通常遵循以下準(zhǔn)則:
- 晴朗的晴天:使用 CRP
- 陰天和其他多云條件:使用 CRP + DLS
為了說明使用 CRP、DLS 或這兩種工具的組合的差異,我們提供了以下示例,每個示例都是在不同的光照條件下捕獲的。
積云 // DLS 和 CRP 都用于校準(zhǔn)
下圖左側(cè)的示例顯示了光照高度可變的多云條件下的數(shù)據(jù)影響。幸運的是,在這種情況下,來自 DLS 的數(shù)據(jù)可用于在處理過程中校正與陰影相關(guān)的效果,如右圖所示。
如上圖所示,云效果并未消除,但地圖質(zhì)量得到了極大改善,并且數(shù)據(jù)集可能已從不可用狀態(tài)轉(zhuǎn)換為可用狀態(tài)。這是好的結(jié)果。應(yīng)該注意的是,有時可變照明非常嚴(yán)重,即使使用 DLS 數(shù)據(jù)也不能消除云中的異常,但是,擁有 DLS 數(shù)據(jù)提供了改進(jìn)的更佳可能性。
無云,晴天//用于校準(zhǔn)的 CRP
當(dāng)天空晴朗時,在大多數(shù)情況下,僅使用 CRP 進(jìn)行校準(zhǔn)是最佳決定。在晴朗的晴天使用 DLS 有時會導(dǎo)致長直線測量的數(shù)據(jù)出現(xiàn)條紋,如下所示:
卷積云 // DLS 和 CRP 都用于校準(zhǔn)
DLS 可以提高數(shù)據(jù)質(zhì)量的另一個例子是多變的陰天條件,類似于下圖所示。在圖像中,很明顯云層中混雜著較重的云帶,薄到足以讓日出。
DLS 在可變照明條件下提供準(zhǔn)確輻射校正的能力可以在下面的示例中看到。事實證明,DLS 可有效消除局部日曬的影響,從而生成高質(zhì)量且均勻的正射鑲嵌圖。
結(jié)論
盡管您在收集多光譜數(shù)據(jù)時可能會面臨具有挑戰(zhàn)性的光照條件,但如果您將 MicaSense 系列相機(jī)與 CRP 和 DLS 搭配使用,您將能夠在各種條件下生成高質(zhì)量的輻射校準(zhǔn)輸出。這種校準(zhǔn)選項的靈活性保您可以獲得一致且可靠的數(shù)據(jù)用于分析和時間研究。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。