離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 用于蝕刻 FSD 車載 AI 芯片
某 AI 芯片公司研發(fā)部采用伯東 20IBE-C 用于蝕刻 FSD 車載 AI 芯片, 去除制造過程中產(chǎn)生的污染物, 提高 AI 芯片的表面均勻度.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 技術(shù)參數(shù)如下:
Ф4 inch X 6片 | 基板尺寸 | < Ф3 inch X 8片 |
樣品臺(tái) | 樣品臺(tái)可選直接冷卻 / 間接冷卻, 0-90度旋轉(zhuǎn) | |
離子源 | 20cm 考夫曼離子源 | |
均勻性 | ±5% for 8”Ф | |
硅片蝕刻率 | 20 nm/min | |
溫度 | <100 |
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 產(chǎn)品圖如上圖, 其主要構(gòu)件包括 Pfeiffer 分子泵, KRI 考夫曼離子源, 觸摸屏控制面板, 真空腔體, 樣品臺(tái). 如下圖:
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的核心構(gòu)件離子源采用的是伯東公司代理美國(guó) 考夫曼博士創(chuàng)立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):
離子源型號(hào) | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 的樣品臺(tái)可以 0-90 度旋轉(zhuǎn), 實(shí)現(xiàn)晶圓反應(yīng)面均勻地接受離子的轟擊, 進(jìn)而實(shí)現(xiàn)提高晶圓的加工質(zhì)量.
Hakuto 離子蝕刻機(jī) 20IBE-C 配套的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700.
伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 技術(shù)參數(shù):
2707-Operating voltage: V DC | 48 (± 5 %) V DC |
Ar 的壓縮比 | > 1 · 1011 |
Ar 的抽速 | 665 l/s |
Ar 的最終轉(zhuǎn)速時(shí)的氣體流量 | 3.5 hPa l/s | 2.62 Torr l/s | 3.5 mbar l/s |
H2 的壓縮比 | 4 · 105 |
H2 的抽速 | 555 l/s |
H2 的最終轉(zhuǎn)速時(shí)的氣體流量 | > 14 hPa l/s | > 10.5 Torr l/s | > 14 mbar l/s |
He 的壓縮比 | 3 · 107 |
He 的抽速 | 655 l/s |
He 的最終轉(zhuǎn)速時(shí)的氣體流量 | 10 hPa l/s | 7.5 Torr l/s | 10 mbar l/s |
I/O 接口 | RS-485, 遠(yuǎn)程, Profibus |
N2 的壓縮比 | > 1 · 1011 |
N2 的抽速 | 685 l/s |
N2 的ZUI大預(yù)真空 | 11 百帕 |
N2 的最終轉(zhuǎn)速時(shí)的氣體流量 | 6.5 hPa l/s | 4.88 Torr l/s | 6.5 mbar l/s |
不帶氣鎮(zhèn)的最終壓力 | 1 · 10-7 百帕 |
允許冷卻水的溫度 | 15 – 35 °C 攝氏度 |
冷卻水消耗最小值 | 100 l/h |
冷卻水耗量 | 100 l/h |
冷卻類型,可選項(xiàng) | 空氣 |
冷卻類型,標(biāo)準(zhǔn) | 水 |
聲壓水平 | ≤50 dB(A) 分貝 (A) |
安裝方向 | 任何 |
排氣連接 | G 1/8" |
接口,擴(kuò)展 | Profibus |
方位 | 混合動(dòng)力 |
ZUI大允許磁場(chǎng) | 6 mT |
根據(jù) PNEUROP 的最終壓力 | < 1 · 10-7 百帕 |
電子驅(qū)動(dòng)單元 | 帶有 TC 400 |
電流ZUI大值 | 8,75 A |
耗電量 max. | 420 瓦 |
轉(zhuǎn)速 ?± 2 % | 49,200 rpm | 49,200 min-1 |
轉(zhuǎn)速可變化 | 60 – 100 |
運(yùn)行時(shí)間 | 2 分 |
連接法蘭(入口) | DN 160 ISO-F |
連接法蘭(出口) | DN 25 ISO-KF/G ?" |
重量 | 12.1 千克 |
防護(hù)等級(jí) | IP54 |
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :
上海伯東 : 羅先生
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。