光纖及應(yīng)用
1. 概述及應(yīng)用
自從1960年梅曼實(shí)現(xiàn)第一束激光以來(lái),激光作為一種特殊的電磁波已經(jīng)伴隨著人類(lèi)走過(guò)了62個(gè)年頭,成為與現(xiàn)代生產(chǎn)生活密不可分的角色。不同頻率(波長(zhǎng))的電磁波,由于其特性不同,在不同的領(lǐng)域發(fā)揮著重要的作用,比如無(wú)線電傳輸,毫米波,醫(yī)用X射線等。隨著光纖激光技術(shù)的成熟與發(fā)展,越來(lái)越多種類(lèi)的光源的應(yīng)用也被人們發(fā)掘出來(lái),比如1um波段用于焊接切割等工業(yè)制造,紫外波段用于晶圓加工,可見(jiàn)光藍(lán)綠波段用于動(dòng)力電池加工等。2um-5um光纖激光也有自己的應(yīng)用:該波段覆蓋了幾段大氣窗口,使其可用于激光、大氣通信、激光測(cè)距、超高分辨率天文光譜儀標(biāo)定和光電探測(cè)等[1];波段包含被稱為“分子指紋”的特征譜線,可被用于高速、高分辨率、高光譜靈敏度、高信噪比的光譜測(cè)量[2];水分子在3um附近有很強(qiáng)的吸收峰, 使其可用于很多醫(yī)療操作;位于分子共價(jià)鍵的吸收譜段,使其可用于分子含量的檢測(cè)和分子類(lèi)型的鑒定,實(shí)現(xiàn)分子的成像等。
不同波段電磁波的應(yīng)用
2. 光纖材料
目前光纖使用的材料主要有硅酸鹽玻璃、氟化物玻璃和硫系玻璃,不同玻璃具有不同的理化參數(shù),成纖之后在色散特性、傳輸損耗特性、非線性特性以及熱特性等方面也有明顯不同。
氟化物光纖 硫化物光纖 鹵化物光纖
大模場(chǎng)空芯光纖
不同材料光纖的物理參數(shù)[3]
相對(duì)于硅酸鹽,氟化物玻璃材料的最大聲子能量500cm-1左右, 硫系玻璃材料的最大聲子能量為200cm-1, 理論上在波段可以得到更低的傳輸損耗。
不同材料光纖的發(fā)射波長(zhǎng)和傳輸損耗
氟化物光纖被用于2-3um光輸出,硫化物光纖被用于3-6.5um光輸出,比6.5um更長(zhǎng)波長(zhǎng)可以用鹵化物光纖輸出。氟化物光纖主要是以氟化鋁(AlF3 )、ZBLAN(53%ZrF4-20%BaF2-4%LaF3-3%AlF3-20%NaF) 或氟化銦(InF3 ) 等為基質(zhì)材料的氟化物多組分玻璃光纖。其中ZBLAN是目前比較常用的光纖,可以實(shí)現(xiàn)稀土摻雜,對(duì)于其與硅基光纖的熔接工藝也相對(duì)比較成熟,商用光纖熔接機(jī)即可,InF和AlF光纖可用作光纖器件(比如合束器)和光纖端帽的制作。但是易潮解是氟化物光纖主要的缺點(diǎn)。商用的硫化物光纖以As2S3、As2Se3為代表,一般用于光傳輸,可制作成大芯徑或高非線性的光纖跳線,但是受限于摻雜工藝只以無(wú)源形式存在。鹵化物光纖可傳輸波長(zhǎng)更長(zhǎng),但易氧化較脆弱使其也只能以無(wú)源跳線形式存在,不同材料光纖各有利弊。
按著實(shí)現(xiàn)激光的實(shí)現(xiàn)方式,可以把光纖分為有源和無(wú)源兩個(gè)方面,主要包括基于摻雜稀土的激光,如摻Er3+、Dy3+的ZBLAN光纖激光;基于非線性效應(yīng)的激光,如拉曼激光、超連續(xù)譜激光;基于特殊結(jié)構(gòu)的空芯光纖,配合充斥不同氣體實(shí)現(xiàn)不同波長(zhǎng)的激光。隨著光纖激光技術(shù)的發(fā)展,更多的商用光纖獲得應(yīng)用,相應(yīng)的光纖處理設(shè)備及工藝也隨之普及起來(lái)。
3. 有源光纖
(1)摻Tm硅基光纖。2um光纖激光器,無(wú)論是超快還是高功率連續(xù)激光,已經(jīng)非常普遍,組成單諧振腔的光纖光柵、作為MOPA結(jié)構(gòu)的各放大級(jí)增益光纖,都有標(biāo)準(zhǔn)的貨架產(chǎn)品。同時(shí),2um光源還可以作為產(chǎn)生超連續(xù)譜和OPO參量放大的泵浦源。
2018年,Jena大學(xué)利用250fs,80MHz的種子源,通過(guò)多級(jí)不同芯徑摻Tm光纖(10/125um,TDF;50/250um Tm:PCF)實(shí)現(xiàn)功率放大(TDFA),又將脈沖壓縮,實(shí)現(xiàn)了平均功率1150W,峰值功率50MHz,脈沖寬度256fs的2um輸出,這也是目前功率最高的2um超短脈沖[12]。
2014年,Liu等利用2um皮秒光纖MOPA系統(tǒng)泵浦ZBLAN光纖,當(dāng)2um皮秒泵浦功率達(dá)到最大值42W時(shí), 超連續(xù)譜激光的最大輸出功率為21.8W, 光譜如圖所示, 光譜覆蓋范圍為1.9um-3.8um[4]。
(2)摻稀土離子的氟化物光纖。利用Er3+、Dy3+、Ho3+離子摻雜的ZBLAN光纖實(shí)現(xiàn)2.8um-3.5um單獨(dú)波長(zhǎng)輸出。
稀土摻雜離子能級(jí)躍遷圖[5-6]
稀土摻雜離子氟化物光纖
2018年加拿大拉瓦爾大學(xué)利用Er3+ZrF光纖在2.8um波段實(shí)現(xiàn)了41.6W連續(xù)光輸出[7],這是目前光纖激光輸出的最高功率。同年在摻Dy3+的氟化物光纖內(nèi)實(shí)現(xiàn)了光纖激光器的一體化設(shè)計(jì), 將一對(duì)光纖布拉格光柵直接刻寫(xiě)在摻 Dy3 +的氟化物光纖上實(shí)現(xiàn)了諧振腔結(jié)構(gòu)。同時(shí), 采用全光纖的摻 Er3 + 光纖激光器作為泵浦源, 實(shí)現(xiàn)了全光纖結(jié)構(gòu)3.24um激光輸出, 輸出功率為10 W, 相對(duì)2.83um泵浦光的斜率效率為58% ,10 W 輸出功率也是輸出波長(zhǎng)3um以上的光纖激光器的最高輸出功率[8]。
2021年, 深圳大學(xué)郭春雨等[9] 報(bào)道了功率為20W的全光纖結(jié)構(gòu)的2.8um激光輸出。所用的摻Er3+:ZrF4光纖直徑為15um,數(shù)值孔徑NA約為0.12,總長(zhǎng)度為6.5m,吸收系數(shù)2-3dB/m@976nm,高反光柵(99%HR-FBG)和低反光柵(10%OC-FBG)直接刻寫(xiě)在增益光纖上,中心波長(zhǎng)2825nm,與Er纖形成諧振腔。如圖所示,硅基與ZBLAN光纖,以及端帽與無(wú)源纖的熔接工藝為報(bào)道者團(tuán)隊(duì)自主研發(fā),制作了包層光濾除器和AlF3光纖端帽。當(dāng)泵浦功率140W,輸出功率20.3W@2.8um,光光轉(zhuǎn)換效率14.5%。
全光纖2.8um單模激光器系統(tǒng)[9]
4. 無(wú)源光纖
(1)超連續(xù)譜。帶有一定峰值功率的脈沖光,進(jìn)入非線性晶體或者光纖時(shí),由于調(diào)制不穩(wěn)定性(MI)、自相為調(diào)制(SPM)、交叉相位調(diào)制(XPM)、受激拉曼散射(SRS)、四波混頻(FWM)、拉曼孤子自頻移(Raman SSFS)等非線性效應(yīng),激光光譜得到展寬形成超連續(xù)譜,由于介質(zhì)的色散特性、 泵浦光( 入射介質(zhì)的激光) 的脈沖寬度、 泵浦光波長(zhǎng)所處的色散區(qū)域以及距離零色散波長(zhǎng)(ZDW) 的遠(yuǎn)近不同, 在超連續(xù)譜產(chǎn)生過(guò)程中起主導(dǎo)作用的非線性效應(yīng)也不同。一般地以2um或者更長(zhǎng)波長(zhǎng)的脈沖光,泵浦帶有一定非線性系數(shù)的氟化物、硫化物或者碲化物等光纖,實(shí)現(xiàn)覆蓋波段的超連續(xù)譜。
全光纖結(jié)構(gòu)的超連續(xù)譜,比較關(guān)鍵的技術(shù)之一是硅基光纖與氟化物光纖的非對(duì)稱熔接工藝,目前可以通過(guò)工業(yè)用的光纖熔接設(shè)備,在優(yōu)化了熔接參數(shù)后實(shí)現(xiàn)損耗0.03dB,達(dá)到模場(chǎng)匹配的要求。
(a)全光纖超連續(xù)譜激光結(jié)構(gòu) (b) 石英與ZBLAN光纖熔接 (c)石英與ZBLAN光纖端面
2016年,某科大利用此熔接技術(shù),以16.3W的皮秒激光泵浦ZBLAN光纖,實(shí)現(xiàn)了10.67W的超連續(xù)譜輸出[10]。2020年課題組設(shè)計(jì)了ZBLAN光纖參數(shù),實(shí)現(xiàn)了更低的石英光纖與氟化物光纖損耗,以及更加平坦的超連續(xù)譜1.92um-4.29um,平均功率20.6W[11],如圖所示。
利用非線性ZBLAN光纖實(shí)現(xiàn)高功率、高平坦度超連續(xù)譜,對(duì)泵浦源的波長(zhǎng)、峰值功率以及石英與氟化物光纖的模場(chǎng)匹配提出了更高的要求。
氟化物光纖產(chǎn)生超連續(xù)譜參數(shù)[14]
相比于ZBLAN光纖,InF3光纖在更長(zhǎng)波段有更高的透過(guò)率,因此被用于超連續(xù)譜長(zhǎng)波長(zhǎng)拓展的選擇,這也與其零色散點(diǎn)波長(zhǎng)相關(guān)ZDW。2020年,某科大利用1.9um-2.6um超連續(xù)譜作為泵浦源,在InF3光纖中獲得1.9um-4.9um,平均功率11.8W的超連續(xù)譜輸出,其中3.8um以上波段成分2.18W,占比18.5%[13-14]。
(2)刻?hào)?。光纖光柵對(duì)于光纖激光器,在諧振腔、濾波、色散啁啾等方面有著非常重要的應(yīng)用。隨著軟玻璃光纖和刻?hào)殴に嚨陌l(fā)展,光柵的刻寫(xiě)逐漸成熟。由于氟化物光纖不具備光敏性,不能采用傳統(tǒng)的紫外曝光法刻寫(xiě),所以飛秒直寫(xiě)的選擇備受青睞,一般包括相位掩模版法、逐點(diǎn)法、逐線法、逐面法。
2018年,拉瓦爾大學(xué)在雙包層摻Er3+:ZBLAN光纖中利用飛秒激光相位掩膜版法刻寫(xiě)了中心波長(zhǎng)3552 nm的光纖光柵對(duì)[7],其中高反光柵和低反光柵的反射率分別為90%和30%。2020年,麥考瑞大學(xué)在InF3光纖中刻寫(xiě)了中心波長(zhǎng)為4 μm、反射率大于95%的FBG,其刻?hào)胖芷跒?.07 μm,這一工作對(duì)推動(dòng)4 μm高功率全光纖化激光器具有重要意義[8,9]。
2022年深圳大學(xué)采用飛秒逐線直寫(xiě)法,裝置如圖所示,利用氟化物光纖制備了窄線寬、高反射率的光纖光柵,中心波長(zhǎng)2964.34nm,3dB帶寬1.24nm,反射率99.27%,并且運(yùn)用此光柵完成了20W,2.8um光纖激光器。實(shí)驗(yàn)當(dāng)中使用了14/250um的ZBLAN光纖,光源為513nm,150nJ的飛秒激光器,刻線掃描速度100um/s,刻線長(zhǎng)度50um,周期間隔1.994um。如圖為制備后的光纖端面[15]。
(3)其他器件
石英光纖與氟化物、硫化物等材料的光纖切割、熔接、拉錐等處理工藝,是全光纖結(jié)構(gòu)激光的關(guān)鍵技術(shù)之一,由于熔點(diǎn)、硬度等物理特性的不同,很多對(duì)于石英光纖的處理經(jīng)驗(yàn)無(wú)法直接借鑒,需要用到具有復(fù)合功能的光纖處理設(shè)備,通過(guò)多個(gè)參數(shù)的調(diào)節(jié)與優(yōu)化,達(dá)到所需要求。經(jīng)過(guò)多年的努力,光纖激光的工作者們,極大優(yōu)化了光纖的處理工藝,目前利用商用的光纖處理設(shè)備,可以得到非常低的熔接損耗,被用在模場(chǎng)匹配器、合束器/分束器、輸出端帽等多種器件。
光纖處理設(shè)備 石英與氟化物光纖熔接 AlF3光纖端帽
氟化物光纖合束器 硫化物光纖合束器 鹵化物光纖跳線
2019年,拉瓦爾大學(xué)分別在氟化物光纖的端面上制備了不同材料的光纖端帽,有ZrF4、AlF3、GeO2、SiO2、Er:YAG和Al2O3,當(dāng)使用20 W@3 μm的激光連續(xù)測(cè)試100小時(shí),實(shí)驗(yàn)中基于氧化物的光纖端帽都通過(guò)了測(cè)試,但也存在著長(zhǎng)時(shí)間工作后端帽輸出面溫度上升的問(wèn)題[15]。為此,科研人員進(jìn)一步利用磁控濺射法制備一層Si3N4薄膜到光纖端帽上,以Al2O3端帽為例,在封裝了100 nm厚度的Si3N4薄膜后,在同樣的測(cè)試條件下連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)100小時(shí)沒(méi)有出現(xiàn)溫度上升的問(wèn)題
5. 總結(jié)
氟化物、硫化物、鹵化物、空心光纖等光纖,從功率、光譜、光纖器件應(yīng)用等各個(gè)方面大大推動(dòng)了激光的發(fā)展,隨著材料及光纖技術(shù)的不斷成熟,將會(huì)有更多高品質(zhì)的光纖產(chǎn)品問(wèn)世,在科研、工業(yè)制造、醫(yī)療等領(lǐng)域發(fā)揮越來(lái)越大的作用。
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