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Aston™ 質(zhì)譜儀通過數(shù)字分子分析推進(jìn)半導(dǎo)體過程控制

來源:伯東企業(yè)(上海)有限公司   2022年10月10日 14:22  
Aston™ 質(zhì)譜儀通過數(shù)字分子分析推進(jìn)半導(dǎo)體過程控制

Aston™ 質(zhì)譜儀通過數(shù)字分子分析推進(jìn)半導(dǎo)體過程控制

*半導(dǎo)體應(yīng)用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston™  Impact 和 Aston™ Plasma 是超緊湊型質(zhì)譜儀, 適用于*半導(dǎo)體工藝(如沉積和蝕刻)所需的定量氣體分析.

Aston™質(zhì)譜分析
分子測量
快速,靈敏度達(dá)到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染.

Aston™質(zhì)譜分析
提高產(chǎn)量
提供化學(xué)特定的可操作見解, 盡可能地提高產(chǎn)量

Aston™質(zhì)譜分析
提高安全性
監(jiān)測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.


Aston™ 質(zhì)譜儀解決了關(guān)鍵的原位計(jì)量問題

• 提高吞吐量: 端點(diǎn)檢測而不是基于時(shí)間的流程
• 提高產(chǎn)量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產(chǎn)物

Aston™ 質(zhì)譜儀*工藝的優(yōu)勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結(jié)構(gòu)
耐腐蝕性氣體
堅(jiān)固緊湊
易于集成到工具平臺(tái)中
沉積應(yīng)用中:  實(shí)時(shí)過程氣體監(jiān)控,以驅(qū)動(dòng)自動(dòng)化工具調(diào)整以實(shí)現(xiàn)過程控制, 沉積步驟之間的終點(diǎn)檢測, 實(shí)現(xiàn)層的化學(xué)計(jì)量工程
蝕刻應(yīng)用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產(chǎn)品, 啟用端點(diǎn)腔室清潔

Atonarp  Aston™ 技術(shù)參數(shù)

類型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型號(hào)

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

質(zhì)量分離

四級桿

真空系統(tǒng)

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

檢測器

FC /SEM

質(zhì)量范圍

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

檢測限

0.1 PPM

工作溫度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 質(zhì)譜儀半導(dǎo)體制造應(yīng)用

*的工藝
原子層沉積 (ALD)
化學(xué)氣相沉積 (CVD)
原子層蝕刻 (ALE)

腔室管理
干凈的終點(diǎn)檢測
指紋識(shí)別和匹配
 

Sub-fab 安全性, 可持續(xù)性和節(jié)省優(yōu)化
過程安全監(jiān)控
干泵保護(hù)
減排管理

質(zhì)譜分析儀

沉積
化學(xué)氣相沉積

TEOS

蝕刻
介電,導(dǎo)電,金屬
高縱橫比 <1% 開放區(qū)域檢測


EUV/光刻
SnH4 蝕刻
光掩模蝕刻

自主過程控制
模型驅(qū)動(dòng)的實(shí)時(shí)過程監(jiān)控


若您需要進(jìn)一步的了解 Atonarp  Aston™ 在線質(zhì)譜分析儀詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生            


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