1. 有機(jī)污染物的清洗去除

      等離子設(shè)備可清除氧化物、氟化物等。Bond Pad在進(jìn)入下一步工藝流程前，首先需要清除上面的有機(jī)物等污染物。在我們?cè)O(shè)備腔體里，可以通過(guò)微波源將通入的工藝氣體離子化，產(chǎn)生的許多離子自由基等可以和污染物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成新的可揮發(fā)的分子，從而達(dá)到清洗目的。

2. 表面清洗（Mold，WireBond等）

      芯片封裝過(guò)程中，在WireBonding前對(duì)Bond Pad進(jìn)行等離子清洗從而提高清潔度，已經(jīng)是基本必要的流程。通過(guò)微波等離子設(shè)備清洗后，可以檢查到其所打線(xiàn)的拉力和剪切力得到非常顯著的提高。

3. 表面活化（FlipChip Underfill）

 

      如今，不管是采用一般封裝工藝還是倒裝芯片封裝工藝，在用化合物填充封裝前，都需要對(duì)被封裝對(duì)象進(jìn)行等離子清洗。為了提高產(chǎn)品優(yōu)良率，這一步驟已經(jīng)被業(yè)界認(rèn)為是必須過(guò)程。微波等離子清洗設(shè)備可以將芯片封裝前的所有大小表面（包括間隔縫隙），都能按生產(chǎn)要求進(jìn)行活化和調(diào)整。

4. 晶圓表面處理（清洗/活化）

      等離子處理常常被用來(lái)優(yōu)化晶圓表面接口條件，能讓接口變得導(dǎo)電或者絕緣。半導(dǎo)體、玻璃、石英，甚至塑料材料都能積極響應(yīng)等離子的活化反應(yīng)，從而更好被粘接。