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硅酸根分析儀如何操作

來(lái)源:北京時(shí)代新維測(cè)控設(shè)備有限公司   2021年10月15日 13:59  

磷酸根監(jiān)測(cè)儀磷酸根分析儀

硅酸根分析儀可以廣泛地應(yīng)用于水中可溶性二氧化硅和硅酸鹽含量的分析、檢測(cè),儀器采用不銹鋼殼體,堅(jiān)固防水。本次操作我們以硅酸根分析儀TP306為例

技術(shù)參數(shù):交流(85~265)V頻率(45~65)Hz

操作內(nèi)容

1.接通硅酸根分析儀TP306電源后,打開(kāi)電源開(kāi)關(guān),首先出現(xiàn)一個(gè)歡迎界面,2s后進(jìn)入主測(cè)量界面,點(diǎn)擊菜單界面,再點(diǎn)擊儀表校準(zhǔn),進(jìn)行儀表校準(zhǔn)。

2.(1)硅酸根分析儀TP306初次使用或長(zhǎng)時(shí)間不用時(shí),必須做曲線校準(zhǔn),以確保測(cè)量數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、可靠。配制好顯完色的標(biāo)準(zhǔn)溶液后,按返回鍵進(jìn)入儀器主菜單

(2)按界面右面提示,從儀器進(jìn)樣杯加入高純水或二次蒸餾水,待儀器有溢流后稍等片刻,按排污鍵將水排出,反復(fù)做二次后,按確認(rèn)鍵進(jìn)入下一界面,

3)按界面右面提示,從儀器進(jìn)樣杯加入高純水或二次蒸餾水,待儀器有溢流后稍等片刻,然后按確認(rèn)鍵進(jìn)入下一界面,界面顯示數(shù)字為此時(shí)檢測(cè)出的電壓值,待電壓值穩(wěn)定(一般上、下波動(dòng)不超過(guò)±3mV)后,按確認(rèn)鍵完成空白校準(zhǔn),光標(biāo)自動(dòng)轉(zhuǎn)到下一項(xiàng),倒加藥,標(biāo)液一以及標(biāo)液二都同上一樣。

3.各個(gè)電壓值大概是倒加藥比空白小50mv(一般倒加藥有可能有浮動(dòng),因?yàn)橐恍S家買的藥品跟自己的不太相同)標(biāo)液一比倒加藥小100mv(一般情況是不會(huì)變化太大。如果太大的話有可能是標(biāo)液配制有問(wèn)題,或者沒(méi)有顯色*,換有可能是因?yàn)榕渲盟幤返乃写罅康牧姿岣?biāo)液二筆標(biāo)液一小300mv(一般情況不會(huì)變化太大)斜率大概是300---380(如果標(biāo)液有問(wèn)題斜率有可能會(huì)偏高)

4.本底功能說(shuō)明為消除標(biāo)準(zhǔn)液體中本底硅對(duì)濃度的影響,使測(cè)量更加準(zhǔn)確,特設(shè)定此功能實(shí)現(xiàn)本底補(bǔ)償。每次校準(zhǔn)儀器后,儀器均會(huì)自動(dòng)計(jì)算出校準(zhǔn)液體中本底硅的含量,將每次校準(zhǔn)后所得的本底硅值以數(shù)值方式顯示出來(lái)。

1所有試劑應(yīng)保存在專門(mén)標(biāo)識(shí)的聚乙烯塑料瓶中。在使用之前,必須用洗滌劑和水*清洗(在初次使用時(shí)應(yīng)用5%的鹽酸浸泡24h以上),然后用最高品質(zhì)的去離子水沖洗幾遍。所有試劑的質(zhì)量等級(jí)都必須是分析純或分析純以上。且未過(guò)保質(zhì)期。

2用于配制溶液的Ⅱ級(jí)試劑水必須是純度很高的高純水,最好是高性能混床離子交換裝置產(chǎn)生的去離子水(25℃時(shí),電導(dǎo)率小于0.2μS/cm),這樣,才能盡量避免由于Ⅱ級(jí)試劑水本底含硅量而造成的測(cè)量誤差。

3如果注入試樣杯的硅酸根標(biāo)準(zhǔn)溶液或顯色試劑取多了,應(yīng)將校準(zhǔn)溶液倒掉,將試樣杯及配制溶液所用的用具清洗干凈后重新配制。

4平時(shí)不做試驗(yàn)時(shí),硅酸根分析儀TP306應(yīng)放置在干燥環(huán)境中,以免儀器因受潮而造成測(cè)量不穩(wěn)定。

5每次校準(zhǔn)儀器后應(yīng)用高純水將進(jìn)樣系統(tǒng)沖洗干凈。平時(shí)不做試驗(yàn)時(shí),硅酸根分析儀TP306進(jìn)樣系統(tǒng)應(yīng)裝入高純水,以保持儀器進(jìn)樣系統(tǒng)濕潤(rùn)。

6為了測(cè)量準(zhǔn)確、穩(wěn)定,應(yīng)對(duì)硅酸根分析儀TP306做周期性的校準(zhǔn)。平時(shí)每天應(yīng)對(duì)儀器做一次空白校準(zhǔn),每隔兩周應(yīng)對(duì)儀器進(jìn)行一次曲線校準(zhǔn),以消除電氣漂移、光學(xué)漂移和溫度漂移對(duì)儀器的影響。


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