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達因特-大氣等離子清洗機和真空等離子清洗機的區(qū)別是什么?

來源:東莞晟鼎精密儀器有限公司   2021年06月11日 14:40  

大氣壓等離子清洗機直接作用于材料表面,實驗證明,同一材料不同位置的處理均勻性很高,這一特性對于工業(yè)領(lǐng)域進行下一環(huán)節(jié)的貼合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。


等離子體是怎么產(chǎn)生的?

要了解等離子清洗機,先得了解等離子體是如何產(chǎn)生的,將氣體加熱,當(dāng)其原子達到幾千甚至上萬攝氏度時,電子就會被原子被"甩"掉,原子變成只帶正電荷的離子.此時,電子和離子帶的電荷相反,但數(shù)量相等,這種狀態(tài)稱做等離子態(tài).人們常年看到的閃電、流星以及熒光燈點燃時,都是處于等離子態(tài). 在茫茫無際的宇宙空間里,等離子態(tài)是一種普遍存在的狀態(tài).宇宙中大部分發(fā)光的星球內(nèi)部溫度和壓力都很高,這些星球內(nèi)部的物質(zhì)差不多都處于等離子態(tài).等離子體的應(yīng)用非常非常廣泛,從核聚變到等離子電視,從等離子薄膜濺射到工業(yè)廢氣處理,從等離子切割焊接到生物醫(yī)療領(lǐng)域的消毒等等。我們目前用的等離子是集中在等離子表面改性,或者說等離子表面處理的應(yīng)用。就是利用等離子體的高能量、不穩(wěn)定的特點,當(dāng)固體材料表面接觸到等離子體后,表面的微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)性質(zhì)、能量都會發(fā)生變化。等離子表面改性(等離子表面處理),就是利用等離子體的特點,對需要處理的固體材料表面進行清潔、活化、激活,從而實現(xiàn)改變表面微觀結(jié)構(gòu)、化學(xué)性質(zhì)、能量的目的。

大氣等離子清洗機和真空等離子清洗機的區(qū)別是什么?

達因特大氣等離子清洗機:

SPA-5200.jpg

首頁圖4.JPG

  通常采用空氣作為發(fā)生氣體。特點是氣體的需求量非常高,工業(yè)上常用中頻作為激發(fā)能源,頻率在40KHZ左右。等離子工作形態(tài)以直噴和旋轉(zhuǎn)的較為常見。設(shè)備工作過程中會產(chǎn)生超標(biāo)的臭氧與氮氧化物等對人體有害的氣體,必須要配套廢氣排放系統(tǒng)一同工作。因為上述特性,大氣等離子主要適用于對處理效果要求高,并且后續(xù)運行成本低的行業(yè)比如手機蓋板行業(yè)、手機保護膜行業(yè)等 。

2.真空等離子清洗機:

SPV-150.jpg

首頁圖7.JPG

主要分為兩種方式,即腔式與大氣壓式,此兩種等離子技術(shù)均為直接式等離子。腔式等離子的特點是需要一個封閉的腔體,電極內(nèi)置于真空腔體中,工作時首先用真空泵將腔體內(nèi)空氣吸出形成類真空環(huán)境,然后等離子在整個腔體中形成并直接對在內(nèi)的材料進行表面處理。此種腔式等離子的處理效果要優(yōu)于大氣等離子。后續(xù)運行成本較高,主要原因是其真空泵連續(xù)工作的功耗較大。另外設(shè)備工作時在真空環(huán)節(jié)需要的時間較多,對采用自動化生產(chǎn)線及要求處理效率的工業(yè)領(lǐng)域來說,局限性較明顯    大氣壓輝光式等離子技術(shù)。RF射頻作為激發(fā)能源,工作頻率是13.56MHZ。采用氬氣(Ar)作為發(fā)生氣體,氧氣或者氮氣作為反應(yīng)氣體。

該技術(shù)的特點是:

ⅰ、均勻度高。大氣壓等離子是輝光式的等離子幕,直接作用于材料表面,實驗證明,同一材料不同位置的處理均勻性很高,這一特性對于工業(yè)領(lǐng)域進行下一環(huán)節(jié)的貼合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。

ⅱ、 效果可控。大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合,主要面向非金屬材料并且要求較高的表面親水效果時采用,比如玻璃,PET Film等。 二是選用 氬氣/氮氣 組合,主要面向各種金屬材料,如金線、銅線等。因氧氣的氧化作用,替換為此方案中的氮氣后,該問題可以得到有效控制。三是只采用氬氣的情況,只采用氬氣也可以實現(xiàn)表面改性,但是效果相對較弱。此為特殊情況,是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限而均勻的表面改性時采用的方案。

ⅲ、安全易用。大氣壓式等離子,也是低溫等離子,不會對材料表面造成損傷,例如對方阻值敏感的ITO Film材質(zhì)亦可處理。無電弧,無需真空腔體,也無需廢氣排放系統(tǒng),長時間使用并不會對操作人員造成身體損害。

ⅳ、面積寬大。大氣壓等離子最大可以處理2m寬的材料,可以滿足現(xiàn)有多數(shù)工業(yè)企業(yè)的需求。

ⅴ、成本低廉。大氣壓等離子設(shè)備功耗低,運行成本以氣體為主。以主要消耗氣體氬氣為例,同大氣等離子氣體消耗量相比不足其1/20.

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