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設(shè)備清潔度的測定方法

來源:杭州宏康精密儀器有限公司   2021年01月18日 10:16  
清潔度測定方法對過程控制、*和失效分析非常重要,是概括用于獲得有關(guān)測定主體如各種機械設(shè)備、電子零件等清潔度數(shù)據(jù)的詳細(xì)過程。
檢測清潔度時對取樣有要求,取樣的基本要求決定于樣品的數(shù)量和取樣位置。零件體積越大、表面積越大、清潔度偏低,則樣品數(shù)量相應(yīng)減少。應(yīng)該從生產(chǎn)中隨機抽取零件,并且采樣過程和后面的檢查過程中不能造成零件的污染。檢測清潔度時,一要環(huán)境清潔,其清潔程度應(yīng)與檢測的要求相適應(yīng);二要檢測人員的衣帽和雙手清潔;三要所用器具也必須清潔。
在我國航空航天部、機械部、鐵道部等已報批核準(zhǔn)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)及具體要求的是比較常用的配對稱重法。
清潔度的測定方法很多,主要有如下幾種:
1.目視檢查法
目視檢查法即由人工直接用眼睛在顯微鏡下對零件可以看到的或內(nèi)腔表面進行檢查。調(diào)節(jié)顯微鏡的照明亮度和放大倍數(shù),人工可以判斷污染顆粒是金屬、非金屬、或纖維以及尺寸大小。目測法可以檢查殘留在零件表面的比較大而明顯的顆粒、斑點、銹斑等污染,但檢查的結(jié)果與人為的因素關(guān)系很大。
2.接觸角法
所謂接觸角,就是液體在固體表面形成熱力學(xué)平衡時所持有的角。對固體和液體之間形成的接觸角的測量,是在表面處理及聚合體表面分析等眾多類似領(lǐng)域廣為知曉的分析技術(shù),是對多個單位的單層變化十分敏感的表面分析技術(shù)。測量液滴在固體表面的接觸角來評估表面的可濕潤特性。如果液滴可濕潤表面,則接觸角小,反之液滴不能濕潤表面,而在表面傾向于形成圓珠或氣泡,則接觸角大。這就是“水膜殘跡”測試的原理。接觸角大,表示表面被憎水性的污物(油 / 脂等)污染,反之,接觸角小,液滴破裂或攤薄,表示該表面清潔。這種測試方法受人為因素影響也很大,而且這種方法對非常輕小或分散的污物不易識別。尤其是有些特殊材料(如 PTFE 塑料)即使表面很清潔,對大多數(shù)液體的接觸角也很大。所以,接觸角法不適合對某些關(guān)鍵重要的表面清潔度測試。
3.熒光發(fā)光法
在許多情況下,可以利用紫外線來檢測零件表面的清潔度。在紫外線的照射下,表面的污染物顆粒會發(fā)出熒光。因為紫外線的能量被污物吸收,污物顆粒電子被激化并躍進到高能級的電子層,處于高能級的不穩(wěn)定的電子隨即會返回原低能級電子層,在此過程中原來吸收的能量以發(fā)熱發(fā)光的形式釋放出來——熒光。這種激活釋放的頻率達(dá)每秒幾千次,所以在紫外線下的熒光不是閃爍的而是持續(xù)穩(wěn)定的,根據(jù)發(fā)熒光即可目測污物在零件表面的位置,熒光強度也是可以應(yīng)用信號檢測儀器測定從而表示表面被污染的程度。但如果要識別污染物的成分等特性,必須借助其他分析法。
4.顆粒尺寸數(shù)量法
這是一種零件清潔度測定的新方法。其基本原理是根據(jù)被檢測的表面與污染物顆粒具有不同的光吸收或散射率。其測試方法是,將一定數(shù)量的零件在一定的條件下清洗,將清洗液通過的濾膜充分過濾,污物被收集在濾膜表面,然后將濾膜干燥,用顯微鏡(比較好設(shè)備是具有拍攝功能的圖像識別和分析設(shè)備)在光照射下檢測,按顆粒尺寸和數(shù)量統(tǒng)計污物顆粒,即可得到所測物體零件的固體顆粒污染物結(jié)果。這是一種適合精密清洗定量化的清潔度檢測方法,尤其使用于檢測微小顆粒和帶色雜質(zhì)顆粒。但是如果濾膜是白色的,那么對白色污物和氣泡的識別就有可能引起誤判。
顆粒尺寸數(shù)量法極限值:對特定規(guī)格的零件,規(guī)定一定樣品數(shù)量、檢查頻率、清洗介質(zhì)、清洗參數(shù)和操作過程的情況下,將顆粒按尺寸大小統(tǒng)計,每個尺寸范圍分別規(guī)定準(zhǔn)許的大顆粒數(shù)量,只要有某一項超標(biāo),則測試結(jié)論為不合格。
5.重量法
重量法是工業(yè)生產(chǎn)和試驗中比較常用的清潔度測定方法。其測定原理是將一定數(shù)量的試樣在一定的條件下進行清洗,然后將清洗的液體通過濾膜充分過濾,污物被收集在經(jīng)過干燥的濾膜表面,將濾膜再次充分干燥,根據(jù)分析天平稱出過濾清洗前后干燥的濾膜質(zhì)量,計算其增加值即為試樣品上的固體顆粒污染物的質(zhì)量。
重量法典型限值:對特定規(guī)格的零件,規(guī)定一定樣品數(shù)量、檢查頻率、清洗介質(zhì)、清洗和過濾方法的情況下準(zhǔn)許的大殘留污物的重量,單位為mg或ug。

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